[发明专利]光学复合膜及其制备方法、应用和显示装置

权利要求书

1.一种光学复合膜，其特征在于，包括层叠设置的变色层和防紫外膜层；

所述变色层是通过在基底上布上变色溶液并干燥后形成，按摩尔百分比计，所述变色溶液包括：有机光致变色粉2％～8％、加硬液10％～20％、醇类载体70％～80％及溶剂0～5％；

所述防紫外膜层包括多个高折射率层和多个低折射率层，且所述高折射率层和所述低折射率层交替设置，所述防紫外膜层整体的紫外透过率≤10％；

所述防紫外膜层包括依次层叠的厚度为5nm～20nm的第一高折射率层、厚度为35nm～55nm的第一低折射率层、厚度为35nm～55nm的第二高折射率层、厚度为10nm～25nm的第二低折射率层、厚度为60nm～85nm的第三高折射率层及厚度为85nm～110nm的第三低折射率层，所述第一高折射率层较所述第三低折射率层更靠近所述变色层；

所述第一高折射率层、所述第二高折射率层及所述第三高折射率层的折射率为1.8～2.4，所述第一低折射率层、所述第二低折射率层及所述第三低折射率层的折射率为1.35～1.49。

2.根据权利要求1所述的光学复合膜，其特征在于，所述有机光致变色粉选自偶氮类及萘酚类中的至少一种；及/或，所述加硬液包括偶联剂、环硫单体和催化剂。

3.根据权利要求1所述的光学复合膜，其特征在于，所述变色层的厚度为1μm～5μm。

4.根据权利要求1～3任一项所述的光学复合膜，其特征在于，所述第一高折射率层、所述第二高折射率层及所述第三高折射率层的材料各自独立地选自Ti₃O₅、Nb₂O₅、Si₃N₄及LaTiO₃中的一种。

5.根据权利要求1～3任一项所述的光学复合膜，其特征在于，所述第一低折射率层、所述第二低折射率层及所述第三低折射率层的材料各自独立地选自SiO₂及MgF₂中的一种。

6.一种光学复合膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

按摩尔百分比计，将如下原料混合：有机光致变色粉2％～8％、加硬液10％～20％、醇类载体70％～80％及溶剂0～5％，制备变色溶液；

在基底上布上所述变色溶液，然后干燥，在所述基底上形成变色层；

在所述变色层远离所述基底的一侧形成防紫外膜层，所述防紫外膜层包括多个高折射率层和多个低折射率层，且所述高折射率层和所述低折射率层交替设置，所述防紫外膜层整体的紫外透过率≤10％；

所述防紫外膜层包括依次层叠的厚度为5nm～20nm的第一高折射率层、厚度为35nm～55nm的第一低折射率层、厚度为35nm～55nm的第二高折射率层、厚度为10nm～25nm的第二低折射率层、厚度为60nm～85nm的第三高折射率层及厚度为85nm～110nm的第三低折射率层，所述第一高折射率层较所述第三低折射率层更靠近所述变色层；

所述第一高折射率层、所述第二高折射率层及所述第三高折射率层的折射率为1.8～2.4，所述第一低折射率层、所述第二低折射率层及所述第三低折射率层的折射率为1.35～1.49。

7.根据权利要求6所述的光学复合膜的制备方法，其特征在于，采用真空镀膜的方式在所述变色层远离所述基底的一侧形成所述防紫外膜层。

8.根据权利要求6所述的光学复合膜的制备方法，其特征在于，在基底上布上所述变色溶液，然后干燥的步骤包括：

将所述基底在所述变色溶液中浸染2h～10h，然后取出在80℃～100℃下干燥30min～60min。

9.权利要求1～5任一项所述光学复合膜或权利要求6～8任一项所述的光学复合膜的制备方法制备的光学复合膜在制备光学眼镜或显示装置中的应用。

10.一种显示装置，其特征在于，包括显示屏和形成在所述显示屏上的光学复合膜，所述光学复合膜为权利要求1～5任一项所述的光学复合膜或权利要求6～8任一项所述的光学复合膜的制备方法制备的光学复合膜。