[发明专利]一种改善刻蚀水印的装置及刻蚀机

权利要求书

1.一种改善刻蚀水印装置，其特征在于，包括设置在刻蚀机台用于承载晶片的滚轮，所述滚轮包括旋转轴以及设置在所述旋转轴表面的螺纹结构。

2.如权利要求1所述改善刻蚀水印的装置，其特征在于，所述螺纹结构包括逆时针走向的第一螺纹单元和顺时针走向的第二螺纹单元。

3.如权利要求2所述改善刻蚀水印的装置，其特征在于，所述第一螺纹单元和所述第二螺纹单元的长度相等。

4.如权利要求3所述改善刻蚀水印的装置，其特征在于，所述第一螺纹单元、所述第二螺纹单元的螺距相等。

5.如权利要求4所述改善刻蚀水印的装置，其特征在于，所述第一螺纹单元、所述第二螺纹单元沿着所述滚轮的旋转轴方向的曲线为正弦曲线或圆锥曲线。

6.如权利要求5所述改善刻蚀水印的装置，其特征在于，所述旋转轴与所述螺纹结构为一体式结构。

7.如权利要求6所述改善刻蚀水印的装置，其特征在于，还包括设置在所述刻蚀机台的水膜管的节流阀，用于控制所述水膜管的输出量。

8.如权利要求7所述改善刻蚀水印的装置，其特征在于，所述节流阀为PVDF节流阀、peek节流阀、PTFE节流阀、PA46节流阀、PA6T节流阀或LCP节流阀。

9.一种刻蚀机，包括如权利要求1-8任一项所述改善刻蚀水印的装置。