[发明专利]光学系统和可穿戴设备在审

专利信息
申请号: 202110730652.0 申请日: 2021-06-28
公开(公告)号: CN113391393A 公开(公告)日: 2021-09-14
发明(设计)人: 汤伟平 申请(专利权)人: 维沃移动通信有限公司
主分类号: G02B6/00 分类号: G02B6/00;G02B27/01
代理公司: 北京博雅睿泉专利代理事务所(特殊普通合伙) 11442 代理人: 蔡兴兵
地址: 523863 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 光学系统 穿戴 设备
【权利要求书】:

1.一种光学系统,其特征在于,包括:

光源;

准直单元,所述准直单元设于所述光源发出的光线的传输路径上;

第一波导,所述第一波导内设有第一导光部,所述第一波导具有目标出射面,所述第一导光部的导光面朝向所述光源的出光面;

反射单元,所述反射单元具有反射面,所述反射面朝向所述目标出射面;

第二波导,所述第二波导设于所述第一波导的第一侧,所述第二波导内设有第二导光部;

光路调整单元,所述光路调整单元设于所述第二波导远离所述准直单元的一端,所述光路调整单元将所述反射面射出的光线导入所述第二波导;

其中,所述光源发出的光线经过所述准直单元准直后,传输至所述第一波导中,并经过所述导光面反射后从所述目标出射面射出,所述反射面将从所述目标出射面射出的光线反射至所述光路调整单元,所述光路调整单元将所述反射面反射的光线导入所述第二波导,所述第二导光部将所述光路调整单元导入的光线导出所述第二波导。

2.根据权利要求1所述的光学系统,其特征在于,所述反射单元设于所述第一波导的远离所述准直单元的一端,所述光学系统的光轴与所述反射单元的切面相垂直,所述切面为光线传输至所述反射单元时,所述光线与所述反射单元的接触点的切面。

3.根据权利要求2所述的光学系统,其特征在于,所述光路调整单元为半透半反膜,所述半透半反膜设于所述第一波导的远离所述准直单元的一端与所述第二波导的远离所述准直单元的一端之间。

4.根据权利要求2所述的光学系统,其特征在于,所述光源发出的光线为线偏振光。

5.根据权利要求2所述的光学系统,其特征在于,所述光源与所述导光面之间设有偏振片。

6.根据权利要求4或5所述的光学系统,其特征在于,所述光路调整单元包括:

反射式偏振片,所述反射偏式振片设于所述第一波导的远离所述准直单元的一端与所述第二波导的远离所述准直单元的一端之间;

第一玻片,所述第一玻片设于所述目标出射面与所述反射单元之间。

7.根据权利要求4或5所述的光学系统,其特征在于,所述光路调整单元包括:

反射式偏振片,所述反射式偏振片设于所述第一波导的远离所述准直单元的一端与所述第二波导的远离所述准直单元的一端之间;

第二玻片,所述第二玻片设于所述第一波导的靠近所述准直单元的一端与所述准直单元之间,光线经过所述准直单元准直后,穿过所述第二玻片进入所述第一波导;

第三玻片,所述第三玻片设于所述第一波导的远离所述准直单元的一端与所述反射式偏振片之间,所述第一导光部导出的光线穿过所述第三玻片传输至所述反射式偏振片,经过所述反射式偏振片反射后穿过所述第三玻片传输至所述反射面,经过所述反射面反射后,再次穿过所述第三玻片,并穿过所述反射式偏振片进入所述第二波导。

8.根据权利要求2所述的光学系统,其特征在于,所述光源发出的光线为圆偏振光,所述光路调整单元包括:

反射式偏振片,所述反射偏式振片设于所述第一波导的远离所述准直单元的一端与所述第二波导的远离所述准直单元的一端之间;

第四玻片,所述第四玻片设于所述第一波导的远离所述准直单元的一端与所述反射式偏振片之间,所述第一导光部导出的光线穿过所述第四玻片传输至所述反射式偏振片,经过所述反射式偏振片反射后穿过所述第四玻片传输至所述反射面,经过所述反射面反射后,再次穿过所述第四玻片,并穿过所述反射式偏振片进入所述第二波导。

9.根据权利要求1所述的光学系统,其特征在于,所述目标出射面相对于所述第二波导远离所述准直单元的一端端面向所述第一波导靠近所述准直单元的一端所在方向错开,所述反射单元设于所述目标出射面与所述第二波导远离所述准直单元的一端端面之间。

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