[发明专利]半导体工艺设备及其门阀中位调节装置

权利要求书

1.一种用于半导体工艺设备的门阀中位调节装置，其特征在于，所述半导体工艺设备包括工艺腔室和用于控制所述工艺腔室的出气口开度的门阀组件，所述门阀组件包括阀板和中位调节件，所述中位调节件用于通过转动来调节所述阀板处于中位状态时所述出气口的开度，所述门阀中位调节装置包括套筒和调节杆，所述套筒套设在所述调节杆上，所述调节杆的第一端用于与所述中位调节件连接并带动所述中位调节件绕所述调节杆的轴线转动；所述套筒能够在所述调节杆转动时沿所述调节杆的轴向进行直线运动，且所述套筒与所述调节杆沿轴向的相对位置的变化量与所述调节杆的旋转角度成正比，所述门阀中位调节装置上具有位置标识图案，所述位置标识图案用于量化所述套筒与所述调节杆之间的相对位置的变化量，

所述门阀中位调节装置还包括固定座，所述固定座包括固定筒和沿所述调节杆的轴线方向设置在所述固定筒上的直线导轨，所述固定筒环绕所述调节杆设置，所述套筒朝向所述调节杆的第一端的端面上形成有相互连通的环形槽和导轨槽，所述固定筒的一端设置在所述环形槽中，所述直线导轨的一端设置在所述导轨槽中，且所述固定筒和所述直线导轨能够分别沿所述环形槽和所述导轨槽相对于所述套筒运动。

2.根据权利要求1所述的门阀中位调节装置，其特征在于，所述套筒的内壁上形成有内螺纹，所述调节杆包括螺纹段，且所述螺纹段的外周壁形成有外螺纹，所述外螺纹与所述内螺纹相配合。

3.根据权利要求2所述的门阀中位调节装置，其特征在于，所述门阀组件还包括阀板控制机构，所述阀板控制机构用于调节所述阀板的状态，所述固定座用于与所述阀板控制机构固定连接，所述套筒活动设置在所述固定座上，且所述套筒能够带动所述调节杆相对于所述固定座沿所述调节杆的轴线方向运动，以使所述调节杆的第一端与所述中位调节件对接或脱离所述中位调节件。

4.根据权利要求1所述的门阀中位调节装置，其特征在于，所述中位调节件上形成有传动槽，所述传动槽具有非圆横截面，所述调节杆的第一端具有传动头，所述传动头的横截面形状与所述传动槽的横截面形状对应，且所述传动头用于插入所述传动槽中。

5.根据权利要求2或3所述的门阀中位调节装置，其特征在于，所述位置标识图案包括沿所述调节杆的轴线方向延伸的第一刻度图案，所述第一刻度图案设置在所述调节杆的第二端与所述螺纹段之间的外周壁上，所述第一刻度图案包括多条垂直于所述调节杆的轴线方向延伸的第一刻度线。

6.根据权利要求5所述的门阀中位调节装置，其特征在于，多条所述第一刻度线沿所述调节杆的轴线方向等间隔设置，且相邻两条所述第一刻度线之间的距离等于所述外螺纹的螺距。

7.根据权利要求5所述的门阀中位调节装置，其特征在于，所述位置标识图案还包括基准线和第二刻度图案，所述基准线设置在所述调节杆的外周壁上，且沿所述调节杆的轴线方向延伸，所述第二刻度图案设置在所述套筒的外壁上，所述第二刻度图案包括多条环绕所述调节杆的轴线周向等间隔设置且沿所述调节杆的轴线方向延伸的第二刻度线。

8.根据权利要求7所述的门阀中位调节装置，其特征在于，所述第二刻度图案包括25条所述第二刻度线。

9.一种半导体工艺设备，其特征在于，包括工艺腔室和用于控制所述工艺腔室的出气口开度的门阀组件，所述门阀组件包括阀板和中位调节件，所述中位调节件用于通过转动来调节所述阀板处于中位状态时所述出气口的开度，所述半导体工艺设备还包括权利要求1至8中任意一项所述的门阀中位调节装置。