[发明专利]多层重叠计量标靶和互补式重叠计量测量系统

权利要求书

1.一种多层重叠标靶，包括：

多个标靶结构，所述多个标靶结构包括三个或更多个标靶结构，所述三个或更多个标靶结构包括第一标靶结构、第二标靶结构以及至少第三标靶结构，其中所述标靶结构中的至少一些包括一组两个或更多个图案元素，其中所述三个或更多个标靶结构被配置为一旦所述三个或更多个标靶结构对齐则共享公共对称中心，其中所述一组两个或更多个图案元素中的第一特定图案元素包括三个或更多个子元素，并且所述一组两个或更多个图案元素中的至少第二特定图案元素包括三个或更多个子元素。

2.如权利要求1所述的多层重叠标靶，其中所述三个或更多个标靶结构对于180度旋转不变。

3.如权利要求2所述的多层重叠标靶，其中所述第一标靶结构、所述第二标靶结构以及所述第三标靶结构中的每一者相对于180度旋转不变。

4.如权利要求1所述的多层重叠标靶，其进一步包括虚拟填充结构。

5.如权利要求4所述的多层重叠标靶，其中所述第一标靶结构、所述第二标靶结构或所述第三标靶结构中的至少一者形成在所述虚拟填充结构之上或之下。

6.如权利要求1所述的多层重叠标靶，其中特定标靶结构内的第一图案元素的形状不同于所述特定标靶结构内的至少一附加图案元素。

7.如权利要求1所述的多层重叠标靶，其中特定工艺层的特定靶标结构的第一组图案元素不同于所述特定工艺层的所述特定靶标结构的附加组图案元素。

8.如权利要求1所述的多层重叠标靶，其中所述多个靶标结构包括多于三个靶标结构，其中所述靶标结构中的每一者形成在不同工艺层上。

9.如权利要求8所述的多层重叠标靶，其中所述标靶结构中的至少一者围绕所述公共对称中心对于90度旋转不变。

10.如权利要求1所述的多层重叠标靶，其中所述第一标靶结构被部署于第一工艺层中，其中所述第二标靶结构被部署于不同于所述第一工艺层的第二工艺层中，其中至少所述第三标靶结构被部署于至少第三工艺层中，所述至少第三工艺层不同于所述第一工艺层和所述第二工艺层。

11.如权利要求1所述的多层重叠标靶，其中两个或更多个标靶结构形成于相同的工艺层。

12.一种用于从多层重叠标靶测量重叠的系统，包括：

照明源，其被配置为照射多个标靶结构，所述多个标靶结构被部署于半导体器件的一个或更多个工艺层上，所述多个标靶结构包括三个或更多个标靶结构，所述三个或更多个标靶结构包括第一标靶结构、第二标靶结构和至少第三标靶结构，其中所述标靶结构中的至少一些包括一组两个或更多个图案元素，其中所述三个或更多个标靶结构被配置为一旦所述三个或更多个标靶结构对齐则共享公共对称中心，其中所述一组两个或更多个图案元素中的第一特定图案元素包括三个或更多个子元素，并且所述一组两个或更多个图案元素中的至少第二特定图案元素包括三个或更多个子元素；

检测器，其被配置为收集从所述多个标靶结构反射的光；以及

一个或更多个处理器，其被配置为执行保持在非瞬态存储介质上的一组程序指令，所述一组程序指令被配置为使所述一个或更多个处理器基于从所述多个标靶收集的所述光来确定两个或更多个结构之间的重叠误差。