[发明专利]一种获得平整、均匀、致密钙钛矿薄膜的方法有效

专利信息
申请号: 202110734446.7 申请日: 2021-06-30
公开(公告)号: CN113540270B 公开(公告)日: 2023-06-30
发明(设计)人: 严文生;臧月;王宇;吴秋轩;林伟杰;辛青;李懿霖;林君 申请(专利权)人: 杭州电子科技大学
主分类号: H01L31/032 分类号: H01L31/032;H01L31/0392;H01L31/18
代理公司: 杭州君度专利代理事务所(特殊普通合伙) 33240 代理人: 杨舟涛
地址: 310018 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 获得 平整 均匀 致密 钙钛矿 薄膜 方法
【权利要求书】:

1.一种获得平整、均匀、致密钙钛矿薄膜的方法,其特征在于,该方法具体包括以下步骤:

步骤一:采用旋涂法制备CsPbBr3钙钛矿薄膜;

用丙酮、乙醇和去离子水依次对衬底进行超声波清洗;

将PbBr2和N,N-二甲基甲酰胺混合溶液以2000-3500rpm的转速旋涂在衬底表面30-40秒,衬底表面生成第一层膜;其中混合溶液中PbBr2的含量为1-1.5M;

将PbBr2和N,N-二甲基甲酰胺混合溶液以3500-4000rpm的转速旋涂在第一层膜上20-30秒,其中混合溶液中PbBr2的含量为0.8-1M;

将制备好的膜浸于CsBr和甲醇的混合溶液中10-15分钟,用异丙醇漂洗,在空气中旋转干燥,在热板上加热至200~250℃,保持5-8分钟,形成CsPbBr3薄膜层;其中CsBr和甲醇的混合溶液中CsBr的浓度为0.07-0.09M;

步骤二:将步骤一得到的CsPbBr3薄膜层放入压印腔内的样品台上,将压印腔抽真空至(1~5)*10-5Pa;将CsPbBr3薄膜层加热到在30-60摄氏度,通过移动活动压柱及施加压力到CsPbBr3薄膜层上;压力范围为20000-45000牛顿;压印时间为10-20分钟;

步骤三:将CsPbBr3薄膜层降温到常温后,取出,获得平整、均匀、致密钙钛矿薄膜。

2.根据权利要求1所述的一种获得平整、均匀、致密钙钛矿薄膜的方法,其特征在于:所述的PbBr2和N,N-二甲基甲酰胺混合溶液中PbBr2的含量为1.3M。

3.根据权利要求1所述的一种获得平整、均匀、致密钙钛矿薄膜的方法,其特征在于:所述的CsBr和甲醇的混合溶液中CsBr的浓度为0.08M。

4.根据权利要求1所述的一种获得平整、均匀、致密钙钛矿薄膜的方法,其特征在于:压印腔抽真空度为3*10-5Pa。

5.根据权利要求1所述的一种获得平整、均匀、致密钙钛矿薄膜的方法,其特征在于:活动压柱的压力为32000牛顿。

6.根据权利要求1所述的一种获得平整、均匀、致密钙钛矿薄膜的方法,其特征在于:所述的衬底为玻璃衬底。

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