[发明专利]一种超平底釉及其在陶瓷砖中的应用

权利要求书

1.一种具备超平底釉的陶瓷砖，其特征在于，所述陶瓷砖包括超平底釉层和位于超平底釉下层的坯体层；

所述超平底釉的化学组成包括：以质量百分比计，IL：2.5-3.5%；SiO₂：58-65%；Al₂O₃：18-25%；Fe₂O₃：0.3-0.5%；TiO₂：0.05-0.3%；CaO：0.5-0.8%；MgO：0.7-1.2%；K₂O：1.0-1.3%；Na₂O：1.6-2.0%；ZrO₂：5-6%；碱土金属氧化物：1-2%；碱金属氧化物：2-4%；

所述坯体的化学组成包括：以质量百分比计，IL：4.0-5.5%；SiO₂：65-68%；Al₂O₃：22-25%；Fe₂O₃：0.2-0.5%；TiO₂：0.05-0.3%；CaO：0.3-0.5%；MgO：1.5-2.5%；K₂O：1.6-2.1%；Na₂O：0.5-0.8%；碱土金属氧化物：1-3%；碱金属氧化物：2-3%；

所述超平底釉的膨胀系数在7.7×10^-6℃^-1-7.9×10^-6℃^-1之间，所述坯体的膨胀系数为8.0×10^-6℃^-1-8.3×10^-6℃^-1的坯体；所述超平底釉和坯体的膨胀系数差值控制在0.2×10^-6℃^-1-0.3×10^-6℃^-1之间；

烧成后超平底釉和坯体反应生成以钙长石和莫来石晶体为主相、厚度为3到5mm之间的坯釉中间层。

2.根据权利要求1所述的陶瓷砖，其特征在于，最高烧成温度为1200-1225℃，烧成周期为65-75分钟。

3. 根据权利要求1所述的陶瓷砖，其特征在于，所述超平底釉的施加方式为喷釉，比重为1.42-1.45g/cm³，施釉量为260-280 g/m²。

4.根据权利要求1或2所述的陶瓷砖，其特征在于，超平底釉的釉面光泽度在7-8°之间，砖面平整度偏差在±0.5mm之间。