[发明专利]目标分割的方法、装置及电子设备有效
申请号: | 202110738825.3 | 申请日: | 2021-06-30 |
公开(公告)号: | CN113570608B | 公开(公告)日: | 2023-07-21 |
发明(设计)人: | 韩文华 | 申请(专利权)人: | 北京百度网讯科技有限公司 |
主分类号: | G06T7/10 | 分类号: | G06T7/10;G06V10/40;G06V10/80 |
代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 张梦瑶 |
地址: | 100085 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 目标 分割 方法 装置 电子设备 | ||
1.一种目标分割的方法,包括:
对待检测图像进行特征提取,生成第一下采样特征图、第二下采样特征图和第三下采样特征图;
根据所述第三下采样特征图生成第三上采样特征图;
对所述第三上采样特征图进行上采样,以生成第一特征图;
将所述第一特征图与所述第二下采样特征图拼接,以生成第一融合特征图;
将所述第一融合特征图输入光流提取网络,并生成第一光流特征图;
通过所述第一光流特征图修正所述第一特征图中像素的位置,以生成第一修正特征图;
将所述第一修正特征图中像素与所述第二下采样特征图中像素点对点相加,以生成第二上采样特征图;
对所述第二上采样特征图进行上采样,以生成第二特征图;
将所述第二特征图与所述第一下采样特征图拼接,以生成第二融合特征图;
将所述第二融合特征图输入光流提取网络,并生成第二光流特征图;
通过所述第二光流特征图修正所述第二特征图中像素的位置,以生成第二修正特征图;
将所述第二修正特征图中像素与所述第一下采样特征图中像素点对点相加,以生成第一上采样特征图;
对所述第一上采样特征图进行解码,以生成目标分割图像。
2.根据权利要求1所述的方法,其中,所述生成第一下采样特征图、第二下采样特征图和第三下采样特征图,包括:
提取所述待检测图像的特征,以生成所述第一下采样特征图;
对所述第一下采样特征图进行下采样,以生成所述第二下采样特征图;
对所述第二下采样特征图进行下采样,以生成所述第三下采样特征图。
3.根据权利要求1所述的方法,其中,所述根据所述第三下采样特征图生成第三上采样特征图,包括:
对所述第三下采样特征图进行池化,以生成所述第三上采样特征图。
4.一种目标分割的装置,包括:
特征提取模块,用于对待检测图像进行特征提取,生成第一下采样特征图、第二下采样特征图和第三下采样特征图;
池化模块,用于根据所述第三下采样特征图生成第三上采样特征图;
第一特征融合模块,用于根据所述第三上采样特征图和所述第二下采样特征图生成第二上采样特征图;
第二特征融合模块,用于根据所述第二上采样特征图和所述第一下采样特征图生成第一上采样特征图;
目标分割模块,用于对所述第一上采样特征图进行解码,以生成目标分割图像;
所述第一特征融合模块,包括:
第一特征图生成子模块,用于对所述第三上采样特征图进行上采样,以生成第一特征图;
第一特征融合子模块,用于将所述第一特征图与所述第二下采样特征图拼接,以生成第一融合特征图;
第一光流提取子模块,用于将所述第一融合特征图输入光流提取网络,并生成第一光流特征图;
第一修正子模块,用于通过所述第一光流特征图修正所述第一特征图中像素的位置,以生成第一修正特征图;
第一特征相加模块,用于将所述第一修正特征图中像素与所述第二下采样特征图中像素点对点相加,以生成所述第二上采样特征图;
所述第二特征融合模块,包括:
第二特征图生成子模块,用于对所述第二上采样特征图进行上采样,以生成第二特征图;
第二特征融合子模块,用于将所述第二特征图与所述第一下采样特征图拼接,以生成第二融合特征图;
第二光流提取子模块,用于将所述第二融合特征图输入光流提取网络,并生成第二光流特征图;
第二修正子模块,用于通过所述第二光流特征图修正所述第二特征图中像素的位置,以生成第二修正特征图;
第二特征相加模块,用于将所述第二修正特征图中像素与所述第一下采样特征图中像素点对点相加,以生成所述第一上采样特征图。
5.根据权利要求4所述的装置,其中,所述特征提取模块,包括:
第一下采样子模块,用于提取所述待检测图像的特征,以生成所述第一下采样特征图;
第二下采样子模块,用于对所述第一下采样特征图进行下采样,以生成所述第二下采样特征图;
第三下采样子模块,用于对所述第二下采样特征图进行下采样,以生成所述第三下采样特征图。
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