[发明专利]制备锆钛酸铅柔性单晶薄膜的方法在审
申请号: | 202110740680.0 | 申请日: | 2021-06-30 |
公开(公告)号: | CN115548209A | 公开(公告)日: | 2022-12-30 |
发明(设计)人: | 吴金良;尹志岗;江奕天;程勇;张兴旺 | 申请(专利权)人: | 中国科学院半导体研究所 |
主分类号: | H01L41/187 | 分类号: | H01L41/187;C30B23/02;C30B29/32;C30B29/64;H01L41/37 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 周天宇 |
地址: | 100083 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 制备 锆钛酸铅 柔性 薄膜 方法 | ||
1.一种制备锆钛酸铅柔性单晶薄膜的方法,其特征在于,包括:
在单晶衬底上制备a面氧化锌缓冲层;
在所述a面氧化锌缓冲层上外延生长锆钛酸铅单晶薄膜层,得到复合层结构;
将所述复合层结构置于稀酸溶液中,采用湿法腐蚀工艺腐蚀所述a面氧化锌缓冲层,得到锆钛酸铅单晶薄膜;
将所述锆钛酸铅单晶薄膜转移至柔性衬底上,得到柔性衬底支撑的锆钛酸铅柔性单晶薄膜。
2.根据权利要求1所述的制备锆钛酸铅柔性单晶薄膜的方法,其特征在于,所述在单晶衬底上制备a面氧化锌缓冲层后,先在所述a面氧化锌缓冲层上外延生长籽晶层,然后在所述籽晶层上外延生长锆钛酸铅单晶薄膜层,其中,
所述籽晶层由钙钛矿型氧化物构成,所述籽晶层与所述a面氧化锌缓冲层晶格匹配。
3.根据权利要求1所述的制备锆钛酸铅柔性单晶薄膜的方法,其特征在于,所述将所述复合层结构置于稀酸溶液中之前,包括在所述锆钛酸铅单晶薄膜层上设置保护层,用于保护锆钛酸铅单晶薄膜不受损伤。
4.根据权利要求3所述的制备锆钛酸铅柔性单晶薄膜的方法,其特征在于,所述保护层为聚合物薄膜保护层,所述聚合物薄膜保护层能溶于有机物,可以被有机溶剂清洗去除。
5.根据权利要求1所述的制备锆钛酸铅柔性单晶薄膜的方法,其特征在于,所述单晶衬底为r面蓝宝石或(001)取向的钙钛矿型氧化物。
6.根据权利要求1所述的制备锆钛酸铅柔性单晶薄膜的方法,其特征在于,所述稀酸溶液浓度为体积分数1-30%。
7.根据权利要求1所述的制备锆钛酸铅柔性单晶薄膜的方法,其特征在于,所述在单晶衬底上制备a面氧化锌缓冲层包括:
采用磁控溅射方式将a面氧化锌沉积到所述单晶衬底上,其中,所述磁控溅射时沉积温度为25-800℃。
8.根据权利要求1所述的制备锆钛酸铅柔性单晶薄膜的方法,其特征在于,所述在单晶衬底上制备a面氧化锌缓冲层的制备时间为1-100分钟。
9.根据权利要求1所述的制备锆钛酸铅柔性单晶薄膜的方法,其特征在于,所述在所述a面氧化锌缓冲层上外延生长锆钛酸铅单晶薄膜层包括:
采用磁控溅射方式将锆钛酸铅沉积到所述a面氧化锌缓冲层上,其中,所述磁控溅射时沉积温度为400-800℃。
10.根据权利要求1所述的制备锆钛酸铅柔性单晶薄膜的方法,其特征在于,所述在所述a面氧化锌缓冲层上外延生长锆钛酸铅单晶薄膜层的制备时间为1-200分钟。
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