[发明专利]用于处理腔室的陶瓷涂覆的石英盖体

权利要求书

1.一种用于基板处理腔室的盖体，包含：

盖构件，所述盖构件由单个板组成，并且具有第一表面以及与所述第一表面相对的第二表面；

所述盖构件中的中央开口，其中所述中央开口的内轮廓包含具有第一直径的第一段、具有第二直径的第二段和具有第三直径的第三段，其中：

所述第二段设置于所述第一段和所述第三段之间且连接至所述第一段和所述第三段；

所述第一直径自所述第二段朝向所述盖构件的所述第一表面逐渐增加；并且

所述第三直径小于所述第二直径；和

沟槽，所述沟槽围绕所述中央开口，所述沟槽沿着所述盖构件的所述第一表面中的封闭路径形成，所述沟槽提供形成在所述沟槽的内表面中的凹槽。

2.如权利要求1所述的盖体，其中所述第一段具有相对于所述中央开口的中心轴成角度的内表面。

3.如权利要求2所述的盖体，其中所述第一段的所述内表面的所述角度为约30°至约60°。

4.如权利要求1所述的盖体，其中所述凹槽具有斜角，所述斜角沿着相对于所述沟槽的底表面成约15°至约45°的角度的方向延伸。

5.如权利要求1所述的盖体，其中所述第二直径自所述第一段至所述第三段圆柱状延伸。

6.如权利要求1所述的盖体，其中所述第三段具有延伸至所述盖构件的所述第二表面的圆整化转角，并且所述第三直径自所述第二段至所述圆整化转角圆柱状延伸。

7.如权利要求6所述的盖体，其中所述盖构件的所述第二表面具有约2埃至约150埃的平均表面粗糙度。

8.如权利要求1所述的盖体，其中所述盖构件由石英制成。

9.如权利要求1所述的盖体，其中所述盖构件由蓝宝石制成。

10.如权利要求1所述的盖体，进一步包含设置在所述第二表面上的涂层，其中所述涂层包含陶瓷。

11.如权利要求1所述的盖体，进一步包含设置在所述第二表面上的涂层，其中所述涂层包含氧化锆、氧化铝或其组合的至少之一以及氧化钇。

12.如权利要求11所述的盖体，其中所述涂层具有约0.001英寸至约0.100英寸的厚度。

13.如权利要求11所述的盖体，其中所述涂层具有约0.005英寸至约0.050英寸的厚度。

14.如权利要求11所述的盖体，其中设置在所述第二表面上的所述涂层包含氧化钇、氧化锆和氧化铝。

15.如权利要求11所述的盖体，其中设置在所述第二表面上的所述涂层包含氧化钇和氧化铝。

16.如权利要求15所述的盖体，其中所述涂层包含约30摩尔百分比至约60摩尔百分比的氧化钇和约30摩尔百分比至约60摩尔百分比的氧化铝。

17.如权利要求11所述的盖体，其中设置在所述第二表面上的所述涂层包含氧化钇和氧化锆。

18.如权利要求11所述的盖体，其中设置在所述第二表面上的所述涂层包含陶瓷材料，所述陶瓷材料包含具有化学式Y₄Al₂O₉的化合物以及Y₂O₃和ZrO₂的固溶体。