[发明专利]显示装置和制造显示装置的方法在审
申请号: | 202110749661.4 | 申请日: | 2021-07-02 |
公开(公告)号: | CN114141964A | 公开(公告)日: | 2022-03-04 |
发明(设计)人: | 柳春基 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 |
主分类号: | H01L51/52 | 分类号: | H01L51/52;H01L27/32;H01L51/56 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人: | 任旭;郭文峰 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示装置 制造 方法 | ||
1.一种显示装置,所述显示装置包括:
基底,包括开口区域、围绕所述开口区域的显示区域以及在所述开口区域与所述显示区域之间的非显示区域;
第一绝缘层,在所述基底上,所述第一绝缘层包括与所述非显示区域叠置的第一凹陷或第一开口;
第二绝缘层,在所述第一绝缘层上,所述第二绝缘层包括第二开口,所述第二开口使在所述第一凹陷或所述第一开口与所述开口区域之间的所述第一绝缘层的第一上表面暴露;
导电图案,在所述第一绝缘层与所述第二绝缘层之间,所述导电图案包括第一层和第二层;以及
显示元件,在所述第二绝缘层上并与所述显示区域叠置,所述显示元件包括第一电极、在所述第一电极上的发射层和在所述发射层上的第二电极。
2.根据权利要求1所述的显示装置,所述显示装置还包括:
中间绝缘层,在所述第一绝缘层与所述第二绝缘层之间;以及
栅电极,在所述第一绝缘层与所述中间绝缘层之间,
其中,所述导电图案在所述中间绝缘层与所述第二绝缘层之间。
3.根据权利要求2所述的显示装置,其中,所述中间绝缘层包括连接到所述第一凹陷或所述第一开口的中间开口,并且
其中,在所述第一绝缘层的所述第一上表面上的所述中间绝缘层的第二上表面被所述第二开口暴露。
4.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述第一绝缘层包括缓冲层和栅极绝缘层,并且
其中,所述显示装置还包括:
半导体层,在所述缓冲层与所述栅极绝缘层之间;以及
中间绝缘层,在所述第一绝缘层与所述第二绝缘层之间,并且
其中,所述导电图案在所述栅极绝缘层与所述中间绝缘层之间。
5.根据权利要求4所述的显示装置,其中,所述中间绝缘层包括连接到所述第一凹陷或所述第一开口的中间开口,并且
其中,所述中间开口使所述第一绝缘层的所述第一上表面暴露。
6.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述第一层包括钛或添加有掺杂剂的非晶硅。
7.根据权利要求6所述的显示装置,所述显示装置还包括在所述第一绝缘层的所述第一上表面上的下图案层,
其中,所述下图案层包括添加有掺杂剂的非晶硅。
8.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述第一凹陷或所述第一开口包括多个第一凹陷或多个第一开口,并且
其中,所述显示装置还包括在所述多个第一凹陷之间或在所述多个第一开口之间的中间导电图案。
9.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述显示元件还包括第一功能层和第二功能层中的至少一个,
所述第一功能层在所述第一电极与所述发射层之间,
所述第二功能层在所述发射层与所述第二电极之间,并且
其中,所述第一功能层和所述第二功能层中的所述至少一个以及所述第二电极从所述显示区域延伸到所述第一凹陷或所述第一开口以与所述第一凹陷或所述第一开口叠置,并且分别包括使所述第一绝缘层的所述第一上表面暴露的第二透射孔和第一透射孔。
10.根据权利要求9所述的显示装置,所述显示装置还包括覆盖所述显示元件的封装层,所述封装层包括第一无机封装层、有机封装层和第二无机封装层,
其中,所述第一无机封装层和所述第二无机封装层从所述显示区域延伸到所述第一绝缘层的所述第一上表面,以与所述第一透射孔和所述第二透射孔叠置。
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