[发明专利]一种提高石英玻璃均匀性的方法

权利要求书

1.一种提高石英玻璃均匀性的方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤1，砣料合成，四氯化硅于沉积炉内高温水解、沉积后制成合成石英玻璃砣料，分级，切段；

步骤2，坨料处理，对分段的坨料表面进行清洁，得到备用品；

步骤3，备用品加工，备用品于槽沉炉内进行槽沉成型、均化以及慢降温后，制成坯料，槽沉成型和均化时，升温的同时炉内压力由真空负压升至微正压；慢降温时，继续维持炉内微正压；

步骤4，成品制备，坯料后处理制成成品。

2.根据权利要求1所述的提高石英玻璃均匀性的方法，其特征在于，所述步骤1中，四氯化硅高温水解的温度控制在1350℃~1500℃。

3.根据权利要求1所述的提高石英玻璃均匀性的方法，其特征在于，所述步骤1中，砣料分级时依据其外观区分。

4.根据权利要求1所述的提高石英玻璃均匀性的方法，其特征在于，所述步骤2中，砣料清洁时中采用2%～10%HF稀释液浸洗。

5.根据权利要求1或2所述的提高石英玻璃均匀性的方法，其特征在于，所述步骤3中，槽沉成型过程时，槽沉炉内的真空压力小于1.5Pa；以缓慢升温至1500~1700℃。

6.权利要求5所述的提高石英玻璃均匀性的方法，其特征在于，所述步骤3中，槽沉成型过程时，升温速率4~11℃/min。

7.根据权利要求1所述的提高石英玻璃均匀性的方法，其特征在于，所述步骤3中，均化时，炉内缓慢升温至1700℃～1900℃并保温，且同步向炉内通入氩气，使压力达到微正压并维持。

8.根据权利要求7所述的提高石英玻璃均匀性的方法，其特征在于，所述步骤3中，均化时，最终压力为0.1～0.2MPa。

9.根据权利要求1所述的提高石英玻璃均匀性的方法，其特征在于，所述步骤3中，慢降温时，采用梯度降温方式并维持微正压至开炉。

10.根据权利要求8所述的提高石英玻璃均匀性的方法，其特征在于，慢降温时，炉内1900℃至1200℃，区间降温速率为-8℃～-6℃/min；炉内1200℃至620℃，降温速率为-4-1℃/min；炉内620℃至开炉，降温速率-8℃～-15℃/min。