[发明专利]一种用于高精度电子经纬仪的纳米级干涉条纹测角系统

说明书

本发明公开了一种用于高精度电子经纬仪的纳米级干涉条纹测角系统，包括纳米级光栅度盘、用于驱动纳米级光栅度盘旋转的驱动装置、纳米级光栅探测器，纳米级光栅探测器包括发光二极管、固定度盘、光敏二极管，发光二极管与光敏二极管相对应设置，固定度盘设置在发光二极管与光敏二极管之间，纳米级光栅度盘设置在固定度盘与光敏二极管之间；所述固定度盘、纳米级光栅度盘上均设置有密度相同的纳米条纹。本发明解决了电子经纬仪在复杂条件下架设、对中、整平和瞄准等过程中的精度误差源问题，提高了电子经纬仪的使用效果。

技术领域

本发明涉及电子经纬仪领域，尤其涉及一种用于高精度电子经纬仪的纳米级干涉条纹测角系统。

背景技术

电子经纬仪是装有电子扫描度盘，在微处理机控制下实现自动化数字测角的经纬仪。电子经纬仪是集光、机、电、计算为一体的自动化高精度的光学仪器，是在光学经纬仪电子化、智能化的基础上，结合了电子细分、控制处理技术和滤波技术，实现了测量读数的智能化。其可广泛应用于高精度工程形变监测以及核电工程、铁路、桥梁、水利、矿山等方面的工程测量，还可应用于地籍测量、地形测量和多种工程测量。

现有的电子经纬仪在复杂条件下测量时，在架设、对中、整平和标准等过程中都会有误差产生，其难以满足核电设施的测量精度要求。因此，本发明提出了一种应用于高精度电子经纬仪的纳米级干涉条纹测角系统来解决上述问题。

发明内容

本发明目的是针对上述问题，提供一种结构简单、提高精度的用于高精度电子经纬仪的纳米级干涉条纹测角系统。

为了实现上述目的，本发明的技术方案是：

一种用于高精度电子经纬仪的纳米级干涉条纹测角系统，包括纳米级光栅度盘、用于驱动纳米级光栅度盘旋转的驱动装置、纳米级光栅探测器，纳米级光栅探测器包括发光二极管、固定度盘、光敏二极管，发光二极管与光敏二极管相对应设置，固定度盘设置在发光二极管与光敏二极管之间，纳米级光栅度盘设置在固定度盘与光敏二极管之间；所述固定度盘、纳米级光栅度盘上均设置有密度相同的纳米条纹。

进一步的，所述纳米级光栅度盘为圆形透明板，圆形透明板上沿圆形透明板的圆周方向等间距设置有若干条明暗相间的等宽度纳米条纹，纳米条纹的长度方向与圆形透明板的径向相一致，圆形透明板中心位置设置有中心通孔并通过中心通孔与驱动装置相连接。

进一步的，所述纳米级光栅度盘的半径为0.08m，纳米条纹的数量为1296000条。

与现有技术相比，本发明具有的优点和积极效果是：

本发明通过使用纳米技术制成纳米级光栅度盘、纳米级光栅探测器，通过纳米级光栅度盘、纳米级光栅探测器的配合构成纳米级干涉条纹测角系统，显著提高了经纬仪的测量精度；应用本发明中纳米级干涉条纹测角系统的高精度电子经纬仪解决了电子经纬仪在复杂条件下架设、对中、整平和瞄准等过程中的精度误差源问题，提高了电子经纬仪的使用效果。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为干涉条纹的示意图；

图2为纳米级光栅度盘的结构示意图；

图3为纳米级光栅探测器的结构示意图；

图4为本发明的结构示意图；

图5为本发明的角度测量信号示意图。

具体实施方式