[发明专利]一种用于气体质量流量控制器的一体化微喷嘴有效

专利信息
申请号: 202110755206.5 申请日: 2021-07-01
公开(公告)号: CN113351387B 公开(公告)日: 2023-07-04
发明(设计)人: 胡向宇;王鹏;王钦惠 申请(专利权)人: 兰州空间技术物理研究所
主分类号: B05B1/00 分类号: B05B1/00;B05B1/30
代理公司: 北京之于行知识产权代理有限公司 11767 代理人: 吕晓蓉
地址: 730013 甘*** 国省代码: 甘肃;62
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 气体 质量 流量 控制器 一体化 喷嘴
【说明书】:

本申请涉及测量控制技术领域,具体而言,涉及一种用于气体质量流量控制器的一体化微喷嘴,包括气体质量流量控制器本体和喷嘴,喷嘴与气体质量流量控制器本体一体成型,其中:气体质量流量控制器本体内部设置有气体通道;喷嘴包括微气孔、分流槽以及密封装置;分流槽设置在质量流量控制器本体的上表面,气体通道与分流槽连通;微气孔设置在分流槽的中心位置,微气孔的下方通过密封装置与气体通道连通。本发明结构简单,加工工艺成本较低,有效的避免了传统喷嘴由于分体设计而导致的气路密封问题、金属镜面抛光等复杂的加工工艺问题,并且在实现了气体均衡,实现了微气孔的快速加工,大大降低了加工难度。

技术领域

本申请涉及测量控制技术领域,具体而言,涉及一种用于气体质量流量控制器的一体化微喷嘴。

背景技术

气体质量流量控制器在化工、半导体、镀膜技术、航天等领域有重要的应用,气体流量控制器的流量控制的基本原理是靠电磁阀控制碟簧与本体的喷嘴之间的微米级距离来控制管道中的微气体流量的。

喷嘴是气体质量流量控制器的关键组件,喷嘴的结构、微气孔的尺寸、平面度、表面粗糙度等参数直接影响气体质量流量控制器的流量控制精度。

传统的气体质量流量控制器的喷嘴限于微气孔的加工难度较大,一般采用分体式结构单独加工出喷嘴和本体,然后通过装配完成喷嘴和本体连接,这样虽然解决了微气孔加工工艺难得问题和气体均衡的问题,但是在装配的过程中又引入了本体与喷嘴之间的密封、喷嘴的镜面抛光密封等新问题,这种传统的分体式设计的加工难度大、加工工艺复杂,加工成本较高。

发明内容

本申请的主要目的在于提供一种用于气体质量流量控制器的一体化微喷嘴,同时具有气路密封、气体均衡以及微气体控制的功能,加工工艺简单,加工成本较低。

为了实现上述目的,本申请提供了一种用于气体质量流量控制器的一体化微喷嘴,包括气体质量流量控制器本体和喷嘴,喷嘴与气体质量流量控制器本体一体成型,其中:气体质量流量控制器本体内部设置有气体通道;喷嘴包括微气孔、分流槽以及密封装置;分流槽设置在质量流量控制器本体的上表面,气体通道与分流槽连通;微气孔设置在分流槽的中心位置,微气孔的下方通过密封装置与气体通道连通。

进一步的,分流槽为环形分流槽。

进一步的,密封装置包括粗孔和密封堵头,其中:粗孔包括上粗孔和下粗孔;微气孔通过上粗孔与气体通道连通,下粗孔内部设置有密封堵头。

进一步的,微气孔的孔径≤0.5mm。

进一步的,粗孔的孔径≤2mm。

进一步的,气室通过喷嘴与气体质量流量控制器本体连接。

进一步的,气室与喷嘴之间为金属密封或者橡胶密封。

本发明提供的一种用于气体质量流量控制器的一体化微喷嘴,具有以下有益效果:

本发明将喷嘴与气体质量流量控制本体进行一体化成型,结构简单,加工工艺成本较低,有效的避免了传统喷嘴由于分体设计而导致的气路密封问题、金属镜面抛光等复杂的加工工艺问题,并且在实现气体控制的同时通过设计环形的分流槽实现了气体均衡,此外采用上下二次打洞程序的微气孔加工方法,实现了微气孔的快速加工,大大降低了加工难度。

附图说明

构成本申请的一部分的附图用来提供对本申请的进一步理解,使得本申请的其它特征、目的和优点变得更明显。本申请的示意性实施例附图及其说明用于解释本申请,并不构成对本申请的不当限定。在附图中:

图1是根据本申请实施例提供的一种用于气体质量流量控制器的一体化微喷嘴的结构示意图;

图2是根据本申请实施例提供的一种用于气体质量流量控制器的一体化微喷嘴的截面示意图;

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