[发明专利]一种平面绕组单元及制作方法、平面绕组和平面电子器件

权利要求书

1.一种平面绕组单元，包括绝缘基材和图案化的导电层，其特征在于，所述导电层设置在所述绝缘基材的表面，所述导电层包括相互之间不导通的绕组区和第一非绕组区，其中：

绕组区，由图案化的导电层形成绕阻；

第一非绕组区，位于所述绕组区的外围、且与所述绕组区相互绝缘，所述第一非绕组区通过第一接地连接点接地形成第一屏蔽层。

2.根据权利要求1所述的平面绕组单元，其特征在于，

所述第一接地连接点位于所述绝缘基材的边缘。

3.根据权利要求1或2所述的平面绕组单元，其特征在于，

所述导电层还包括第二非绕组区，所述第二非绕组区被所述绕组区包围、且与所述绕组区相互绝缘，所述第二非绕组区通过第二接地连接点接地形成第二屏蔽层。

4.根据权利要求3所述的平面绕组单元，其特征在于，

所述第二接地连接点位于所述绝缘基材上靠近磁芯孔的边缘。

5.根据权利要求3所述的平面绕组单元，其特征在于，

在所述第一接地连接点、第二接地连接点分别设置贯穿所述绝缘基材两侧表面的过孔。

6.根据权利要求3所述的平面绕组单元，其特征在于，

所述导电层被配置为布置在所述绝缘基材的一侧表面或两侧表面；当所述导电层布置在所述绝缘基材的两侧表面时，两侧表面上的第一接地连接点、第二接地连接点位置相同并通过过孔导通。

7.根据权利要求1所述的平面绕组单元，其特征在于，

所述绕组区包括初级绕组区和/或次级绕组区，其中，初级绕组区具有图案化的初级绕组、驱动绕组，次级绕组区具有图案化的次级绕组、辅助绕组。

8.一种平面绕组，其特征在于，包括权利要求1-7之一所述的平面绕组单元。

9.根据权利要求8所述的平面绕组，其特征在于，

所述平面绕阻单元间设置有绝缘层。

10.一种平面电子器件，其特征在于，包括权利要求8-9之一所述的平面绕组。

11.根据权利要求10所述的平面电子器件，其特征在于，

所述平面电子器件为电感器或电容器。

12.一种权利要求1-7之一所述平面绕组单元的制作方法，其特征在于，包括：

提供绝缘基材；

在绝缘基材的表面形成图案化的导电层；

所述图案化的导电层具有相互绝缘的绕组区和非绕组区；

将非绕组区通过接地设计或接地处理形成屏蔽层。

13.根据权利要求12所述的制作方法，其特征在于，

所述形成图案化的导电层的方法包括蚀刻、丝网印刷。