[发明专利]微纳结构的增材制造方法有效
申请号: | 202110761096.3 | 申请日: | 2021-07-06 |
公开(公告)号: | CN113478809B | 公开(公告)日: | 2023-05-30 |
发明(设计)人: | 冯继成;刘仕荣 | 申请(专利权)人: | 上海科技大学 |
主分类号: | B29C64/10 | 分类号: | B29C64/10;B29C64/30;B22F10/10;B22F10/85;B33Y10/00;B33Y40/00;B33Y50/02 |
代理公司: | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人: | 高燕;许亦琳 |
地址: | 201210 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 结构 制造 方法 | ||
1.微纳结构的增材制造方法,其特征在于,基于电场作用操控气体中带电分散相的定向迁移,使所述带电分散相在基底上堆垛形成所需的微纳结构;
所述基底上罩设有镂空图案层,所述带电分散相在迁移过程中穿过所述镂空图案层中的孔道迁移至基底上;
所述镂空图案层的材料选自电介质,所述电介质选自氮化硅、氧化硅或光刻胶。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述带电分散相的尺寸为0.1nm~10μm。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述带电分散相的材料选自无机材料、有机材料和复合材料中的一种或多种。
4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述电场作用的强度为1~10000V/cm或-10000~-1V/cm。
5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,通过控制电场的分布和强度、基底的运动,控制打印的形状和尺寸。
6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述气体的使用量为0.1~100L/min。
7.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述电场作用使得所述气体中的带电分散相产生定向迁移。
8.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述基底连接外部电路。
9.据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述带电分散相通过放电等离子体技术、气雾化法或者电喷雾手段制备。
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