[发明专利]基于微腔激光的二进制PUF编码方法在审

专利信息
申请号: 202110767029.2 申请日: 2021-07-07
公开(公告)号: CN113610204A 公开(公告)日: 2021-11-05
发明(设计)人: 王虎;邵宇川;董红星;高新宇;郑毅帆;邵建达;张龙 申请(专利权)人: 中国科学院上海光学精密机械研究所
主分类号: G06K19/06 分类号: G06K19/06;G06F21/73
代理公司: 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 代理人: 张宁展
地址: 201800 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 基于 激光 二进制 puf 编码 方法
【权利要求书】:

1.一种基于微腔激光二进制的PUF编码方法,其特征在于该方法包括下列步骤:

1)采用化学气相沉积方法制备的低密度半导体微腔(1),所述的低密度半导体微腔(1)的空间面密度为0.04~0.17/μm2

2)采用飞秒激光(2)对所述的低密度半导体微腔进行激励辐照,使用CCD收集辐照点位发射的光谱信号;

3)当光谱信号中存在线宽1nm,则判定为受激辐射响应(3);

4)利用所述的飞秒激光(2)对所述的低密度半导体微腔(1)进行扫描,辐照点数大于40个独立点位,统计所述的受激辐射响应(3)判定成功的点位比例,并定义为受激辐射概率,获得泵浦能量密度与受激辐射概率关系(4);

5)从所述的泵浦能量密度与受激辐射概率关系(4)获得50%受激辐射概率所需的泵浦能量密度,使用该能量密度对50×50阵列点位进行50%受激辐射概率的泵浦激励点阵扫描(5),并对阵列各点位的受激辐射成功与否进行判定:点阵扫描中所述的受激辐射响应(3)判定成功的点位定义为1,判定失败的点位定义为0;

6)判定完成,点阵二维码(6)制备完成。

2.根据权利要求1所述的基于微腔激光二进制的PUF编码方法,其特征在于:所述低密度半导体微腔(1)采用的材料为CsPbX3钙钛矿结构,其中X为Cl,Br,I的任意一种或两种卤素混合。

3.根据权利要求1所述的基于微腔激光二进制的PUF编码方法,其特征在于,步骤2)中所述的飞秒激光(2)的光斑直径为5μm、能量密度为10~250μJ/cm2

4.根据权利要求1所述的基于微腔激光二进制的PUF编码方法,其特征在于,步骤3)中所述的谱线单条谱线或多条谱线。

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