[发明专利]防伪薄膜、防伪元件和防伪薄膜的制作方法

权利要求书

1.一种防伪薄膜(100)，其特征在于，包括至少两个结构单元(120)，至少两个所述结构单元(120)沿第一方向依次相连，所述结构单元(120)包括：

至少一个透明层(122)，所述透明层(122)可透过第一波长范围的电磁波；

至少一个阻光层(124)，所述阻光层(124)可阻隔第二波长范围的电磁波，所述第二波长范围处于所述第一波长范围内；

至少一个第一信息层(126)，

其中，所述透明层(122)、所述阻光层(124)和所述第一信息层(126)沿第二方向进行组合，所述第二方向与所述第一方向垂直，所述阻光层(124)和/或所述第一信息层(126)在所述第一方向上间断设置，光线射入所述防伪薄膜(100)能够根据所述第一信息层(126)得到防伪信息；

所述防伪薄膜(100)还包括：

至少一个第二信息层(140)，所述第二信息层(140)沿第三方向与所述结构单元(120)相连，所述第三方向与所述第一方向垂直，且所述第三方向与所述第二方向垂直，光线射入所述防伪薄膜(100)能够根据所述第一信息层(126)和/或所述第二信息层(140)得到防伪信息。

2.根据权利要求1所述的防伪薄膜(100)，其特征在于，所述透明层(122)在所述第二方向上的尺寸与所述阻光层(124)在所述第二方向上的尺寸的比值不小于2/3。

3.根据权利要求1所述的防伪薄膜(100)，其特征在于，所述透明层(122)在所述第二方向上的尺寸与所述阻光层(124)在所述第三方向的尺寸的比值不大于tan75°。

4.根据权利要求1所述的防伪薄膜(100)，其特征在于，所述第一波长范围为0.2μm至100μm的波长范围中的任意一段。

5.根据权利要求1所述的防伪薄膜(100)，其特征在于，所述阻光层(124)在所述第二方向上的尺寸不大于10μm。

6.根据权利要求1所述的防伪薄膜(100)，其特征在于，所述透明层(122)在所述第二方向上的尺寸不小于30μm。

7.根据权利要求1所述的防伪薄膜(100)，其特征在于，相邻两个所述结构单元(120)相互贴合。

8.一种防伪元件(200)，其特征在于，包含如权利要求1至7中任一项所述的防伪薄膜(100)分切制成的薄膜片段，至少有1mm以上长度的分切轨迹与所述第一方向不平行。

9.一种防伪薄膜的制作方法，其特征在于，用于制作如权利要求1至7中任一项所述的防伪薄膜，包括：

准备至少两个所述防伪薄膜中的结构单元，对每个所述结构单元进行编号；

对所述编号进行排序；

将相邻两个所述结构单元按所述编号的顺序进行贴合并形成板材；

根据第一厚度沿所述板材的侧面进行切削，得到薄膜；

将所述薄膜的表面与所述防伪薄膜中的第二信息层进行组合，得到所述防伪薄膜。