[发明专利]用于磁控溅射设备的磁源模组及磁控溅射设备

权利要求书

1.一种用于磁控溅射设备的磁源模组，其特征在于，包括：磁体模块；所述磁体模块可旋转的设于所述磁控溅射设备的阴极靶材的背部；

所述磁体模块包括多个第一磁体和多个第二磁体，所述第一磁体背离所述阴极靶材一端和所述第二磁体背离所述阴极靶材一端的极性相反；

多个所述第一磁体中的部分为第一电磁体，另一部分为第一永磁体；多个所述第二磁体中的部分为第二电磁体，另一部分为第二永磁体。

2.根据权利要求1所述的用于磁控溅射设备的磁源模组，其特征在于，多个所述第一电磁体中的至少部分连续设置，和/或，多个所述第二电磁体中的至少部分连续设置。

3.根据权利要求1所述的用于磁控溅射设备的磁源模组，其特征在于，多个所述第一电磁体中的至少部分与多个所述第二电磁体中的至少部分对应设置，以使二者之间产生环形磁场。

4.根据权利要求1所述的用于磁控溅射设备的磁源模组，其特征在于，多个所述第一磁体环绕一圈形成内圈磁体组件，多个所述第二磁体环绕一圈形成外圈磁体组件，所述外圈磁体组件环绕所述内圈磁体组件一周；

或者，多个所述第一磁体和多个所述第二磁体环绕一圈形成磁体圈。

5.根据权利要求4所述的用于磁控溅射设备的磁源模组，其特征在于，所述磁体模块的旋转中心位于所述内圈磁体组件和所述外圈磁体组件之间；或者，所述磁体模块的旋转中心位于所述磁体圈内，且与所述磁体圈的中心相互错开。

6.根据权利要求1所述的用于磁控溅射设备的磁源模组，其特征在于，所述磁体模块的旋转中心在所述阴极靶材上的投影位于所述阴极靶材的中心区域；

多个所述第一电磁体在所述阴极靶材上的投影，位于所述阴极靶材的中部区域和/或所述阴极靶材的边缘区域；多个所述第二电磁体在所述阴极靶材上的投影，位于所述阴极靶材的中部区域和/或所述阴极靶材的边缘区域；所述阴极靶材的中部区域环绕于所述阴极靶材的中心区域周围，所述阴极靶材的边缘区域环绕于所述阴极靶材的中部区域周围。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的用于磁控溅射设备的磁源模组，其特征在于，所述磁体模块还包括第一磁轭和第二磁轭；所述第一磁轭具有第一表面，所述第二磁轭具有第二表面，所述第一表面和所述第二表面相互面对；多个所述第一磁体的两端分别与所述第一表面和所述第二表面固定连接，多个所述第二磁体的两端分别与所述第一表面和所述第二表面固定连接。

8.根据权利要求7所述的用于磁控溅射设备的磁源模组，其特征在于，所述第一磁轭和所述第二磁轭中的一个包括第一分磁轭和第二分磁轭，所述第一分磁轭与多个所述第一磁体固定，所述第二分磁轭与多个所述第二磁体固定。

9.根据权利要求7所述的用于磁控溅射设备的磁源模组，其特征在于，所述磁源模组还包括平行于所述第一表面的平衡板，所述平衡板的一侧与所述第一磁轭或所述第二磁轭固定连接，所述平衡板的另一侧向远离所述第一磁轭的方向延伸。

10.一种磁控溅射设备，其特征在于，包括溅射腔室和权利要求1至9中任一项所述的磁源模组，所述磁源模组设置于所述溅射腔室内。