[发明专利]一种以邻苯二酚/壳聚糖为界面粘附层的仿生锂离子印迹膜的制备方法及应用

权利要求书

1.一种以邻苯二酚/壳聚糖为界面粘附层的仿生锂离子印迹膜的制备方法，其特征在于该制备方法是按以下步骤完成的：

一、制备PVDF-CA/CS膜：

①、对PVDF膜进行清洗，得到清洗后的PVDF膜；

②、将清洗后的PVDF膜浸入到NaAC溶液中，然后加入NaIO₄溶液、壳聚糖溶液和邻苯二酚溶液，再在水浴锅中搅拌反应，反应结束，将PVDF膜取出，再使用去离子水冲洗干净，烘干后得到PVDF-CA/CS膜；

二、制备以CA/CS为界面粘附层的仿生锂离子印迹膜：

①、将LiCl和12-冠醚-4加入到乙腈中，再搅拌，得到混合溶液；

②、将PVDF-CA/CS膜浸入到混合溶液中，再加入偶氮二异丁腈、乙二醇二甲基丙烯酸酯和甲基丙烯酸，通入氮气，再密闭反应体系，在氮气气氛、搅拌和温度为75℃下冷凝回流，反应结束后，将PVDF膜取出清洗，再使用盐酸对PVDF膜进行清洗，去除Li⁺，最后干燥，得到CA/CS-LIIM膜，即为以邻苯二酚/壳聚糖为界面粘附层的仿生锂离子印迹膜。

2.根据权利要求1所述的一种以邻苯二酚/壳聚糖为界面粘附层的仿生锂离子印迹膜的制备方法，其特征在于步骤一①中所述的PVDF膜的直径为47mm，厚度为0.45μm；步骤一①中首先使用去离子水对PVDF膜冲洗3次～5次，再使用无水乙醇对PVDF膜冲洗3次～5次，得到清洗后的PVDF膜。

3.根据权利要求1所述的一种以邻苯二酚/壳聚糖为界面粘附层的仿生锂离子印迹膜的制备方法，其特征在于步骤一②中所述的NaAC溶液的浓度为50mmol/L～70mmol/L，NaIO₄溶液的浓度为20mmol/L～30mmol/L，壳聚糖溶液的浓度为10g/L～20g/L，邻苯二酚溶液的浓度为1g/L～2g/L。

4.根据权利要求1或3所述的一种以邻苯二酚/壳聚糖为界面粘附层的仿生锂离子印迹膜的制备方法，其特征在于步骤一②中所述的NaAC溶液与NaIO₄溶液的体积比为100:(10～30)；步骤一②中所述的NaAC溶液与壳聚糖溶液的体积比为100:(10～30)；步骤一②中所述的NaAC溶液与邻苯二酚溶液的体积比为100:(10～30)。

5.根据权利要求4所述的一种以邻苯二酚/壳聚糖为界面粘附层的仿生锂离子印迹膜的制备方法，其特征在于步骤一②中所述的NaAC溶液的制备方法如下：将三水乙酸钠加入到去离子水中，溶解后使用0.1mol/L盐酸将溶液的pH值调节至5，得到pH值为5、浓度为50mmol/L～70mmol/L的NaAC溶液；步骤一②中所述的NaIO₄溶液的制备方法如下：将高碘酸钠加入到去离子水中，溶解后得到浓度为20mmol/L～30mmol/L的NaIO₄溶液；步骤一②中所述的壳聚糖溶液的制备方法如下：将壳聚糖加入到体积分数为1％的醋酸溶液中，再搅拌20h～24h，得到浓度为10g/L～20g/L的壳聚糖溶液；所述的壳聚糖的浓度小于200mPa·s。

6.根据权利要求1所述的一种以邻苯二酚/壳聚糖为界面粘附层的仿生锂离子印迹膜的制备方法，其特征在于步骤一②中所述的烘干的温度为65℃～75℃，烘干的时间为1h～5h；步骤一②中将清洗后的PVDF膜浸入到NaAC溶液中，然后加入NaIO₄溶液、壳聚糖溶液和邻苯二酚溶液，再在温度为30℃～35℃的水浴锅中搅拌反应1h～2h，搅拌的速度为30r/min～60r/min。

7.根据权利要求1所述的一种以邻苯二酚/壳聚糖为界面粘附层的仿生锂离子印迹膜的制备方法，其特征在于步骤二①中所述的LiCl的质量与乙腈的体积比为(0.3g～0.5g):90mL；步骤二①中所述的12-冠醚-4与乙腈的体积比为(0.3～0.5):90；步骤二①中所述的搅拌的时间为0.15h～2h。