[发明专利]磁纳米粒子成像系统矩阵测量的栅格状探测板及测量方法

权利要求书

1.一种磁纳米粒子成像系统矩阵测量的栅格状探测板，其特征在于，该栅格状探测板包括：

设定数量的呈栅格状排列的凹状正方形晶格；

所述正方形晶格的顶部为敞开状态。

2.根据权利要求1所述的磁纳米粒子成像系统矩阵测量的栅格状探测板，其特征在于，所述正方形晶格之间通过与正方形晶格材质相同的材料作为隔离板进行隔离。

3.根据权利要求2所述的磁纳米粒子成像系统矩阵测量的栅格状探测板，其特征在于，所述隔离板为可任意拆装的插板。

4.根据权利要求2所述的磁纳米粒子成像系统矩阵测量的栅格状探测板，其特征在于，所述材料为树脂。

5.根据权利要求1所述的磁纳米粒子成像系统矩阵测量的栅格状探测板，其特征在于，所述正方形晶格，其边缘不高于所述栅格状探测板的边缘。

6.根据权利要求1所述的磁纳米粒子成像系统矩阵测量的栅格状探测板，其特征在于，所述栅格状探测板，其大小为以磁纳米粒子成像系统的成像范围的中心为中心进行设定比例放大。

7.根据权利要求1所述的磁纳米粒子成像系统矩阵测量的栅格状探测板，其特征在于，所述正方形晶格的大小与磁纳米粒子成像系统的成像分辨率的像素大小相同。

8.一种磁纳米粒子成像系统矩阵测量的栅格状探测板的测量方法，其特征在于，基于权利要求1-7任一项所述的磁纳米粒子成像系统矩阵测量的栅格状探测板，该测量方法包括：

步骤S10，根据磁纳米粒子成像系统的分辨率调整隔离板，并将调整后的探测板放入磁纳米粒子成像系统成像空间中并调整位置，使成像平面平行于探测板并穿过晶格；以探测板中左上角正方形晶格为初始晶格，按照蛇形进行各正方形晶格的栅格扫描，令t＝1作为当前正方形晶格；

步骤S20，在当前正方形晶格t中注入标准浓度的示踪剂SPIO溶液；所述示踪剂SPIO溶液液面位置高于成像平面，并且没有溶液溢出至其他正方形晶格；

步骤S30，进行一次完整的MPI扫描，并将扫描获得的电压信号值减去之前所有电压信号值作为当前电压信号；

步骤S40，进行所述当前电压信号的滤波降噪，获得可用系统矩阵；

步骤S50，根据所述当前电压信号以及所述示踪剂SPIO溶液的浓度，通过逆运算求解，获得当前正方形晶格t对应的系统矩阵的列值；

步骤S60，令t＝t+1，并跳转步骤S20直至t的值为正方形晶格的设定数量，获得各正方形晶格对应的系统矩阵的列值；

步骤S70，将所述各正方形晶格对应的系统矩阵的列值根据正方形晶格的位置拼接，获得磁纳米粒子成像系统的系统矩阵。

9.一种设备，其特征在于，包括：

至少一个处理器；以及

与至少一个所述处理器通信连接的存储器；其中，

所述存储器存储有可被所述处理器执行的指令，所述指令用于被所述处理器执行以实现权利要求8所述的磁纳米粒子成像系统矩阵测量的栅格状探测板的测量方法。

10.一种计算机可读存储介质，其特征在于，所述计算机可读存储介质存储有计算机指令，所述计算机指令用于被所述计算机执行以实现权利要求8所述的磁纳米粒子成像系统矩阵测量的栅格状探测板的测量方法。