[发明专利]偏光片光电保护膜生产工艺及偏光片光电保护膜在审

专利信息
申请号: 202110772889.5 申请日: 2021-07-08
公开(公告)号: CN113457934A 公开(公告)日: 2021-10-01
发明(设计)人: 费志豪;贾良久;何亮 申请(专利权)人: 芜湖夏鑫新型材料科技有限公司
主分类号: B05C11/10 分类号: B05C11/10;B05C1/08
代理公司: 芜湖安汇知识产权代理有限公司 34107 代理人: 朱顺利
地址: 241100 安徽省芜湖市*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 偏光 光电 保护膜 生产工艺
【说明书】:

发明公开了一种偏光片光电保护膜生产工艺,包括步骤:S1、放卷;S2、涂胶;S3、烘干;S4、收卷;在所述步骤S2中,通过涂胶辊将胶槽中的胶液涂覆在基膜表面,由自动供胶装置向胶槽中补充胶液。本发明的偏光片光电保护膜生产工艺,通过设置自动供胶装置向胶槽中补充胶液,可以降低劳动强度,可以准确控制补充的胶液量,也不容易导致空气进入胶液中,避免影响偏光片光电保护膜的良率。本发明还提供了一种偏光片光电保护膜。

技术领域

本发明属于保护膜生产技术领域,具体地说,本发明涉及一种偏光片光电保护膜生产工艺及偏光片光电保护膜。

背景技术

偏光光电保护膜的表面需要涂布胶液,起保护及增加光泽作用。涂胶辊将胶槽中的胶液涂覆至基膜表面,当胶槽中的胶液减少后,需要及时向胶槽中补充胶液。现有的操作方式为人工将胶液倾倒至胶槽中,这种操作方式不仅增加劳动强度,而且容易导致空气进入胶液中,也不容易控制补充的胶液量,进入胶水中的空气受热膨胀会产生气泡,会影响保护膜涂胶效果,导致防静电偏光片光电保护膜良率的降低。

发明内容

本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此,本发明提供一种偏光片光电保护膜生产工艺,目的是降低劳动强度,避免影响偏光片光电保护膜的良率。

为了实现上述目的,本发明采取的技术方案为:偏光片光电保护膜生产工艺,包括步骤:

S1、放卷;

S2、涂胶;

S3、烘干;

S4、收卷;

在所述步骤S2中,通过涂胶辊将胶槽中的胶液涂覆在基膜表面,由自动供胶装置向胶槽中补充胶液。

所述自动供胶装置包括储胶罐、设置在所述胶槽中的第一液位传感器和第二液位传感器以及与储胶罐和所述胶槽连接的胶液输送机构。

所述胶液输送机构包括与所述储胶罐连接的第一输送管、与第一输送管连接的供料泵、与供料泵连接的第二输送管、分配器和与分配器连接的进胶管,进胶管设置多个,进胶管与所述胶槽连接,各个进胶管分布在不同位置处。

所述分配器具有多个出胶口,各个所述进胶管的进胶口通过第三输送管与分配器的一个出胶口连接,进胶管的进胶口的高度大于进胶管的出胶口的高度,进胶管的出胶口与所述胶槽连接。

所述进胶管设置所述胶槽的四个侧壁上。

在所述步骤S2中,当所述第一液位传感器检测到所述胶槽中的液位高度达到第一设定值时,由所述胶液输送机构将所述储胶罐中的胶液输送至胶槽中;当所述第二液位传感器检测到所述胶槽中的液位高度达到第二设定值时,第二设定值大于第一设定值,胶液输送机构停止工作。

本发明还提供了一种根据偏光片光电保护膜生产工艺制备得到的偏光片光电保护膜。

本发明的偏光片光电保护膜生产工艺,通过设置自动供胶装置向胶槽中补充胶液,可以降低劳动强度,可以准确控制补充的胶液量,也不容易导致空气进入胶液中,避免影响偏光片光电保护膜的良率。

附图说明

本说明书包括以下附图,所示内容分别是:

图1是自动供胶装置的结构示意图;

图2是胶槽与进胶管的连接示意图;

图3是胶槽的俯视图;

图中标记为:

1、储胶罐;2、吸风罩;3、第一输送管;4、供料泵;5、第二输送管;6、分配器;7、胶槽;8、进胶管。

具体实施方式

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