[发明专利]校准微波辐射计的校准装置和方法在审

专利信息
申请号: 202110773673.0 申请日: 2021-07-08
公开(公告)号: CN114112072A 公开(公告)日: 2022-03-01
发明(设计)人: 哈拉尔德·切卡拉 申请(专利权)人: 罗德施瓦兹两合股份有限公司
主分类号: G01J5/80 分类号: G01J5/80
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 谭营营;胡彬
地址: 德国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 校准 微波 辐射计 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种用于精确校准微波辐射计(12)的校准装置,其中所述校准装置(10)具有部分包围校准室(16)的壳体(14),其中所述壳体(14)包括设置在所述壳体(14)的壁(22)处的微波可透过的部分(20),其中所述微波可透过的部分(20)限定微波进入所述校准室(16)的入口,其中所述微波可透过的部分(20)由绝热的微波可透过的材料制成,其中在所述校准室(16)内设置了处于所限定的温度下的吸收器(18),其中设置了在所述微波可透过的部分(20)和所述校准室(16)之间入口界面(24),这确保所述微波基本上无反射地进入所述校准室(16),并且其中所述微波基本上无反射地进入对应于捕获所述微波的至少3级反射。

2.根据权利要求1所述的校准装置,其中所述壳体(14)在所述壳体(14)的至少一个内侧(28)上具有结构(30),其中所述内侧(28)界定所述校准室(16)。

3.根据权利要求2所述的校准装置,其中所述壳体(14)在所述壳体(14)的彼此相对的两个内侧(28)上具有结构(30),其中所述内侧(28)界定所述校准室(16),并且其中所述结构(30)不同。

4.根据权利要求2或3所述的校准装置,其中所述结构(30)沿着所述内侧(28)斜对地行进。

5.根据权利要求2至4中任一项所述的校准装置,其中所述内侧(28)设置在所述壳体(14)的壁(22,38)的以下位置处:在所述位置处设置了所述微波可透过的部分(20)。

6.根据权利要求2至5中任一项所述的校准装置,其中所述结构(30)由具有陡峭边缘(34)的凹槽(32)提供。

7.根据权利要求2至6中任一项所述的校准装置,其中所述结构(30)是脊状的,从而在所述微波可透过的部分(20)和所述校准室(16)之间提供脊状界面,特别是其中所述脊状结构相对于所述内侧(28)的主表面具有大于68°的角度。

8.根据前述权利要求中任一项所述的校准装置,其中所述微波可透过的材料具有约为1的折射率,和/或其中所述壳体(14)的剩余部分包括反射性和非吸收性材料。

9.根据前述权利要求中任一项所述的校准装置,其中所述校准室(16)至少部分地被处于所述限定的温度下的流体填充,其中所述吸收器(18)浸没在所述流体中。

10.根据前述权利要求中任一项所述的校准装置,其中设置了在所述微波可透过的部分(20)和空气之间的界面,其为平坦的界面,特别是其中设置面向所述微波可透过的部分(20)和空气之间的所述界面的空气流方向构件(50),其中干燥的空气被引导至所述界面。

11.根据前述权利要求中任一项所述的校准装置,其中设置了被放置在所述壳体(14)上的密封件(48),从而相对于环境密封所述校准室(16)。

12.根据前述权利要求中任一项所述的校准装置,其中所述校准装置(10)在所述壳体(14)的一个壁(38)处具有喷口(40)。

13.根据前述权利要求中任一项所述的校准装置,其中所述校准装置(10)具有两个手柄(42),所述两个手柄设置在相对的壁(44)处,所述相对的壁(44)不同于所述壳体(14)的所述壁(22),在所述壳体(14)的所述壁(22)处设置了所述微波可透过的部分(20)。

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