[发明专利]Pt-Si共改性铝化物涂层及其制备工艺

权利要求书

1.一种Pt-Si共改性铝化物涂层，其特征在于：包括如下质量百分比的各组分：10％-35％Ni、5％-10％Cr、2％-10％Si以及1％-12％Pt，余量包括Al。

2.根据权利要求1所述的Pt-Si共改性铝化物涂层，其特征在于：所述镍的质量百分比进一步为15％-30％、所述铬的质量百分比进一步为6％-10％、所述硅的质量百分比进一步为3％-6％、所述铂的质量百分比进一步为1％-8％。

3.根据权利要求2所述的Pt-Si共改性铝化物涂层，其特征在于：所述镍的质量百分比进一步为20％-25％、所述铬的质量百分比进一步为6％-9％、所述硅的质量百分比进一步为4％-6％、所述铂的质量百分比进一步为1％-2％。

4.一种Pt-Si共改性铝化物涂层的制备工艺，其特征在于：首先采用磁控溅射(PVD)方法，在镍基高温合金上施加一个铂层，然后采用热浸镀方法，在所述镍基高温合金表面施加铝硅涂层，最终得到所述Pt-Si共改性铝化物涂层；具体包括如下步骤：

(1)采用所述PVD方法，在所述镍基高温合金表面施加一个铂层，然后对其进行真空扩散处理；

(2)采用所述热浸镀方法，在所述步骤(1)的合金表面施加铝硅涂层；

(3)对所述步骤(2)中的合金进行真空扩散处理。

5.根据权利要求4所述的制备工艺，其特征在于：所述步骤(1)之前还包括，对所述镍基高温合金进行除油和活化处理，通过预处理去除所述镍基高温合金表面的油脂和氧化物。

6.根据权利要求4所述的制备工艺，其特征在于：所述步骤(1)中的铂层厚度为1-10μm。

7.根据权利要求4所述的制备工艺，其特征在于：所述步骤(1)中的所述真空扩散处理的温度为1000-1200℃，时间为2-5小时。

8.根据权利要求4所述的制备工艺，其特征在于：所述热浸镀方法中采用的熔池为铝硅合金，其成分是质量分数为5％的硅，质量分数为95％的铝。

9.根据权利要求4所述的制备工艺，其特征在于：所述步骤(3)中的所述真空扩散处理的温度为950-1200℃，时间为1-10小时。