[发明专利]一种体声波谐振器及其制备方法

权利要求书

1.一种体声波谐振器的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：

提供基底；

在所述基底表面生长一层非晶硅；

在所述非晶硅上形成反射栅；

在所述反射栅表面形成图形化金属层；

在所述图形化金属层上形成光刻胶阻挡层；

在形成有所述图形化金属层和所述光刻胶阻挡层的反射栅上溅射非金属介质，形成非金属介质层；

采用剥离工艺去除所述光刻胶阻挡层和位于所述光刻胶阻挡层上方的所述非金属介质层，制作形成下电极；

在所述下电极上形成压电层，所述下电极在图形化金属层的下电极信号输出区域相对于所述压电层外露；

在所述压电层上形成上电极；

其中，所述在所述下电极上形成压电层，包括：在所述图形化金属层的下电极信号输出区域表面形成阻挡层，在所述阻挡层的作用下制作形成所述压电层；

其中，在所述阻挡层的作用下制作形成所述压电层包括：在形成有所述阻挡层的所述下电极上形成压电层；在所述压电层上方形成非金属介质层，对所述非金属介质层进行图形化处理，以露出所述阻挡层表面的压电层部分；采用湿法腐蚀工艺去除所述阻挡层表面的所述压电层部分；去除图形化处理后的所述非金属介质层和所述阻挡层。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述非金属介质层的厚度大于所述图形化金属层的厚度；则所述制作形成下电极包括：

采用CMP工艺对所述反射栅表面的非金属介质层和所述图形化金属层进行平坦化处理，使得所述非金属介质层和所述图形化金属层的厚度相同，得到平坦化下电极。

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在所述下电极上所述下电极信号输出区域表面形成阻挡层包括：

在所述下电极上形成光刻胶阻挡层，露出所述下电极信号输出区域；

在形成有所述光刻胶阻挡层的所述下电极上溅射非金属介质；

去除所述光刻胶阻挡层和位于所述光刻胶阻挡层上方的非金属介质，在所述下电极信号输出区域表面形成所述阻挡层。

4.一种体声波谐振器，其特征在于，采用权利要求1-3任一项所述的制备方法制备，所述体声波谐振器包括自下而上设置的：

基底；

非晶硅层；

反射栅层；

平坦化下电极，所述下电极包括图形化金属层和非金属介质层，所述图形化金属层还包括下电极信号输出区域；

压电层，所述压电层形成在所述下电极表面，并露出所述下电极信号输出区域；

上电极，所述上电极包括上电极信号输出区域。