[发明专利]用于确定对指纹的贡献的方法

权利要求书

1.一种用于确定出自多个装置中的装置对参数的指纹的贡献的方法，所述参数与衬底的处理相关联，所述方法包括：

获得参数数据和使用数据，其中所述参数数据基于对已由所述多个装置处理的多个衬底的测量结果，所述使用数据指示出自所述多个装置中的哪些所述装置用于每个衬底的所述处理；

根据所述使用数据对所述参数数据分组；和

基于所述使用数据和经分组的参数数据确定所述贡献。

2.如权利要求1所述的方法，其中，所述装置中的至少一个装置被基于对所述至少一个装置的参数的指纹的所确定的贡献来控制。

3.如权利要求1或2所述的方法，其中，所述参数选自以下中的一个或更多个：

i.临界尺寸、重叠、临界尺寸均一性、线边缘置放、对准、聚焦、图案移位、线边缘粗糙度、微拓朴和/或边缘置放误差；和/或

ii.特征的形状描述，诸如侧壁角、抗蚀剂高度和/或接触孔椭圆率；和/或

iii.处理参数，诸如涂层厚度，诸如底部抗反射涂层厚度和/或抗蚀剂厚度，和/或涂层的光学属性，所述涂层的光学属性指示吸收的度量，诸如折射率和/或消光系数；和/或

iv.根据衬底的测量结果确定的参数，诸如良率参数，诸如缺陷和/或电气性能。

4.如权利要求1所述的方法，其中，所述类型的装置包括蚀刻装置、沉积工具、衬底台、抛光装置、退火装置、清洁装置、涂覆装置、显影装置、注入装置和/或焙烤装置。

5.如权利要求1所述的方法，其中，所述参数数据基于被处理的测量结果，其中使用主成份分析或模型拟合，诸如多项式模型或线性模型，来处理所述测量结果。

6.如权利要求1所述的方法，其中，所述多个装置中的每一个已经用于处理所述多个衬底中的至少一个。

7.如权利要求1所述的方法，其中，存在至少两种类别的装置，其中至少两种类别包括同一类型的至少两个装置。

8.如权利要求1所述的方法，其中，所述分组还基于对应用于所述参数数据的变化的分析。

9.如权利要求1所述的方法，其中，基于使用所述使用数据确定矩阵、和对包括所述矩阵的方程式求解、以及使用所述参数数据，来确定所述贡献。

10.一种系统，包括处理器，所述处理配置成确定出自多个装置中的装置对参数的指纹的贡献，所述参数与衬底的处理相关联，所述处理器配置成至少：

获得参数数据和使用数据，其中所述参数数据基于对已由所述多个装置处理的多个衬底的测量结果，所述使用数据指示所述多个装置中的哪些所述装置用于每个衬底的所述处理；

根据所述使用数据对所述参数数据分组；和

基于所述使用数据和经分组的参数数据确定所述贡献。

11.一种用于控制确定出自多个装置中的装置对参数的指纹的贡献的程序，所述参数与衬底的处理相关联，所述程序包括用于执行至少以下的指令：

获得参数数据和使用数据，其中所述参数数据基于对已由所述多个装置处理的多个衬底的测量结果，所述使用数据指示出自所述多个装置中的哪些所述装置用于每个衬底的所述处理；

根据所述使用数据对所述参数数据分组；和

基于所述使用数据和经分组的参数数据确定所述贡献。

12.如权利要求11所述的程序，还包括：用以基于所确定的所述多个装置中的至少一个装置的对参数的指纹的贡献来控制所述至少一个装置。