[发明专利]立体浮雕陶瓷艺术板及其制备方法

权利要求书

1.一种立体浮雕陶瓷艺术板的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括以下步骤：

在陶瓷岩板坯体表面喷墨打印精雕墨水；

在喷墨打印精雕墨水后的坯体表面施底釉；所述底釉的始融温度为1150～1180℃；

在施底釉后的坯体上喷墨打印图案；

在喷墨打印图案后的坯体表面施第一窑变釉；第一窑变釉的始融温度为1070～1100℃；所述第一窑变釉的化学组成包括：以质量百分比计，SiO₂：48.0～55.0%、Al₂O₃：9.0～13.0%、碱土金属氧化物：6.5～11.5%、碱金属氧化物：7.0～9.0%、ZnO：9.0～12.0%、TiO₂：3.0～7.0%；所述第一窑变釉的施加方式为喷釉，比重为1.40～1.50 g/cm³，施釉量为300～500 g/m²；

在施第一窑变釉的坯体表面施第二窑变釉；第二窑变釉的始融温度为1050～1080℃；第一窑变釉的始融温度高于第二窑变釉20～50℃；所述第二窑变釉的化学组成包括：以质量百分比计，SiO₂：45.0～50.0%、Al₂O₃：8.0～12.0%、碱土金属氧化物：5.0～9.0%、碱金属氧化物：6.0～8.0%、TiO₂：8.0～12.0%、ZnO：10.0～14.0%、ZrO₂：3.0～5.0%；所述第二窑变釉的施加方式为喷釉，比重为1.40～1.50 g/cm³，施釉量为300～500 g/m²；

烧成，获得所述立体浮雕陶瓷艺术板；所述立体浮雕陶瓷艺术板的图案纹理的雕刻深度为0.4～3mm。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述精雕墨水在坯体表面的施加量为20～120g/m²。

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述底釉的化学组成包括：以质量百分比计，SiO₂：55～60%、Al₂O₃：21～24%、碱土金属氧化物：0.2～1%、碱金属氧化物：6.0～8.0%、ZrO₂：6.0～10.0%。

4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述底釉的施加方式为喷釉，比重为1.40～1.50 g/cm³，施加量为300～1000 g/m²。

5.立体浮雕陶瓷艺术板，其特征在于，根据权利要求1至4中任一项所述的制备方法获得。