[发明专利]清洁基站的控制方法、清洁基站和清洁系统有效
申请号: | 202110803259.X | 申请日: | 2021-07-15 |
公开(公告)号: | CN114073447B | 公开(公告)日: | 2023-03-21 |
发明(设计)人: | 翟泽;钟艳 | 申请(专利权)人: | 浙江绍兴苏泊尔生活电器有限公司 |
主分类号: | A47L11/00 | 分类号: | A47L11/00;A47L11/40 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 孙静;刘芳 |
地址: | 312000 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 清洁 基站 控制 方法 系统 | ||
1.一种清洁基站的控制方法,其特征在于,所述方法,包括:
通过水位检测设备获取清水箱的第一水位、以及污水箱的第二水位;
获取所述清洁基站的多个历史清洗信息,每个历史清洗信息包括清水耗水量和污水产生量;
根据所述历史清洗信息,确定所述清水箱对应的第一阈值、以及所述污水箱对应的第二阈值;
根据所述第一水位、所述第二水位、所述第一阈值和所述第二阈值,生成提示信息,并输出所述提示信息;
所述根据所述历史清洗信息,确定所述清水箱对应的第一阈值、以及所述污水箱对应的第二阈值,包括:
根据所述多个历史清洗信息中的清水耗水量,在所述多个历史清洗信息中确定多个第一目标清洗记录;
根据每个第一目标清洗记录对应的清洗时长,确定每个第一目标清洗记录各自对应的权重值;
根据每个第一目标清洗记录中的清水耗水量和每个第一目标清洗记录各自对应的权重值,确定所述第一阈值。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述根据所述历史清洗信息,确定所述清水箱对应的第一阈值、以及所述污水箱对应的第二阈值,包括:
根据所述多个历史清洗信息中的污水产生量,确定所述第二阈值。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述根据所述多个历史清洗信息中的清水耗水量,在所述多个历史清洗信息中确定多个第一目标清洗记录,包括:
确定所述多个历史清洗信息中的清水耗水量的第一平均值;
针对任意一个历史清洗信息,若所述历史清洗信息中的清水耗水量与所述第一平均值的差值的绝对值小于或等于第一差值,则将所述历史清洗信息确定为所述第一目标清洗记录。
4.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述根据所述多个历史清洗信息中的污水产生量,确定所述第二阈值,包括:
根据所述多个历史清洗信息中的污水产生量,在所述多个历史清洗信息中确定多个第二目标清洗记录;
根据每个第二目标清洗记录对应的清洗时长,确定每个第二目标清洗记录各自对应的权重值;
根据每个第二目标清洗记录中的污水产生量和每个目标清洗记录各自对应的权重值,确定目标污水产生量;
将所述污水箱的容量与所述目标污水产生量的差值确定为所述第二阈值。
5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所述根据所述多个历史清洗信息中的污水产生量,在所述多个历史清洗信息中确定多个第二目标清洗记录,包括:
确定所述多个历史清洗信息中的污水产生量的第二平均值;
针对任意一个历史清洗信息,若所述历史清洗信息中的污水产生量与所述第二平均值的差值的绝对值小于或等于第二差值,则将所述历史清洗信息确定为所述第二目标清洗记录。
6.根据权利要求1-5中任意一项所述的方法,其特征在于,所述根据所述第一水位、所述第二水位、所述第一阈值和所述第二阈值,生成提示信息,包括:
若所述第一水位小于或等于所述第一阈值,以及所述第二水位大于或等于所述第二阈值,则生成所述提示信息,所述提示信息用于指示在所述清水箱加水、以及对所述污水箱放水;或者,
若所述第一水位小于或等于所述第一阈值,以及所述第二水位小于所述第二阈值,则生成所述提示信息,所述提示信息用于指示在所述清水箱加水;或者,
若所述第一水位大于所述第一阈值,以及所述第二水位大于或等于所述第二阈值,则生成所述提示信息,所述提示信息用于指示对所述污水箱放水。
7.一种清洁基站,其特征在于,所述清洁基站,包括:存储器、处理器、水位检测设备、清水箱和污水箱,所述处理器与存储器和水位检测设备连接,所述水位检测设备用于检测清水箱和污水箱的水位;
所述存储器用于存储计算机程序;所述处理器用于根据所述存储器存储的计算机程序,实现如权利要求1-6中任意一项所述的清洁基站的控制方法。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江绍兴苏泊尔生活电器有限公司,未经浙江绍兴苏泊尔生活电器有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110803259.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:清洁控制方法、清洁基站和清洁系统
- 下一篇:切削刀片及旋转切削刀具