[发明专利]质谱分析方法在审

专利信息
申请号: 202110804865.3 申请日: 2021-07-16
公开(公告)号: CN114062479A 公开(公告)日: 2022-02-18
发明(设计)人: 铃木一己;植松克之;须原浩之 申请(专利权)人: 株式会社理光
主分类号: G01N27/64 分类号: G01N27/64;G01N1/28
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 代理人: 王永伟
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 谱分析 方法
【说明书】:

本发明涉及质谱分析方法。本发明的课题在于,提供精度良好地能定量的质谱分析方法。本发明的质谱分析方法向配置在测定试样表面的质谱分析用基质点照射激光束,进行质谱分析,其包括照射所述激光束的激光束照射工序,在向所述质谱分析用基质点照射所述激光束时,在所述测定试样出现的激光点(A)全部收纳在所述质谱分析用基质点,或者(B)将所述质谱分析用基质点全部收纳。

技术领域

本发明涉及质谱分析方法。

背景技术

质谱分析(mass spectrometry)是一种分析方法,其使含有对象分子的试样离子化,由质荷比(质量-电荷比)(m/z)分离检测对象分子由来的离子,能够获取对象分子中的关于特定化学结构的信息。

在质谱分析中,试样的离子化是影响分析质量的因素,一直以来已开发出多种方法。例如,可以列举MALDI(Matrix Assisted Laser Desorption/Ionization,基质辅助激光解吸/电离)和ESI(Electro Spray Ionization,电喷雾离子化)等。这些方法即使在试样量为微量也容易离子化,因此,用于生物和医疗等技术领域。

在MALDI质谱分析方法中,基质(matrix)作为用于辅助试样离子化的物质,通过向将基质赋予试样的地方处照射脉冲激光,与基质一起使试样离子化。

在MALDI质谱分析方法中,关于将基质赋予试样的方法,提出过各种方法。例如,以下质谱分析用试样制备方法:将基质蒸镀形成微结晶,接着,将基质溶液喷雾,在微结晶上使得基质结晶生长(例如,参照专利文献1)。但是,在MALDI质谱分析方法中,根据制备试样作业者技术不同,有时所得结果发生很大变化,存在难以精度良好地定量分析的问题。

【专利文献】

【专利文献1】日本特开2014-206389号公报

发明内容

本发明就是鉴于上述以往技术所存在的问题而提出来的,其目的在于, 提供精度良好地能定量的质谱分析方法。

作为用于解决上述课题的手段,本发明的质谱分析方法向配置在测定试样表面的质谱分析用基质点照射激光束,进行质谱分析,其包括照射所述激光束的激光束照射工序,在向所述质谱分析用基质点照射所述激光束时,在所述测定试样出现的激光点

(A)全部收纳在所述质谱分析用基质点,或者

(B)将所述质谱分析用基质点全部收纳。

下面说明本发明效果:

根据本发明,可以提供精度良好地能定量的质谱分析方法。

附图说明

图1A是表示粉体形成装置的整体一例的概略图。

图1B是表示图1A的液滴形成单元中的液滴形成头的概略图。

图1C是图1A的液滴形成单元的A-A'线截面图。

图1D是表示通过静电涂布法将基质涂布在基材上的一例的模式图。

图2是表示能在质谱分析用测定试样制备方法中使用的激光束照射手段一例的概略图。

图3A是表示一般激光束的波面(等位相面)一例的概略图。

图3B是表示一般激光束的光强度分布一例的图。

图3C是表示一般激光束的位相分布一例的图。

图4A是表示光涡旋激光束的波面(等位相面)一例的概略图。

图4B是表示光涡旋激光束的光强度分布一例的图。

图4C是表示光涡旋激光束的位相分布一例的图。

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