[发明专利]一种HJT非晶硅镀膜后不良片的返工工艺

权利要求书

1.一种HJT非晶硅镀膜不良片的返工工艺，其特征在于：所述HJT非晶硅镀膜不良片的返工工艺包含步骤：

P1.1水洗：用纯水进行水洗，洗去不良片表面脏污；

P1.2 CP酸洗：用硝酸和氢氟酸的混合溶液对不良片进行酸洗，去除表面非晶硅薄膜，后用纯水水洗，洗去表面酸液；

P1.3预清洗：用氨水双氧水混合溶液对不良片进行预清洗，洗去杂质和酸残留，后用纯水水洗，洗去表面酸液；

P1.4制绒：重新制绒，制绒时温度降低5-10℃，后用纯水水洗，洗去表面酸液；

P1.5 SC1液清洗：用氨水双氧水混合液对制绒后的硅片进行清洗，后用纯水水洗，洗去表面酸液；

P1.6 SC2液清洗：用盐酸双氧水混合液进行硅片二次清洗，后用纯水水洗，洗去表面酸液；

P1.7氢氟酸洗：使用氢氟酸溶液清洗硅片，达到脱水目的，后用纯水水洗；

P1.8慢提拉：用纯水进行慢提拉；

P1.9烘干：将所得硅片进行烘干处理。

2.根据权利要求1所述HJT非晶硅镀膜不良片的返工工艺，其特征还在于：所述P1.1水洗步骤中，所述水洗时间为90-240s。

3.根据权利要求1所述HJT非晶硅镀膜不良片的返工工艺，其特征还在于：所述P1.2 CP酸洗步骤中，所述硝酸和氢氟酸的混合溶液中，硝酸质量分数不低于50％，氢氟酸质量分数为不低于50％，所述清洗时间为60-360s；所述水洗时间为90-240s。

4.根据权利要求1所述HJT非晶硅镀膜不良片的返工工艺，其特征还在于：所述P1.3预清洗步骤中，所述预清洗液为氨水及双氧水混合溶液，清洗时间为4min-6min；所述水洗时间为90-240s。

5.根据权利要求1所述HJT非晶硅镀膜不良片的返工工艺，其特征还在于：所述P1.4制绒步骤中，所述制绒时间600-800s，制绒温度70-80℃；所述水洗时间为90-240s。

6.根据权利要求1所述HJT非晶硅镀膜不良片的返工工艺，其特征还在于：所述P1.5SC1液清洗步骤中，所述SC1为氨水及双氧水的混合药液，氨水质量分数为不低于30％，双氧水质量分数为不低于20％，清洗温度为40-85℃，清洗时间为4min-6min；所述水洗时间为90-240s。

7.根据权利要求1所述HJT非晶硅镀膜不良片的返工工艺，其特征还在于：所述P1.6SC2液清洗步骤中，所述SC2药液为盐酸及双氧水的混合药液，盐酸质量分数为不低于30％，双氧水质量分数为不低于20％，清洗温度为40-85℃，清洗时间为4min-6min；所述水洗时间为90-240s。

8.根据权利要求1所述HJT非晶硅镀膜不良片的返工工艺，其特征还在于：所述P1.7氢氟酸洗步骤中，所述氢氟酸药液的质量分数为不低于50％，常温下清洗时间50-200s；所述水洗时间为90-240s。

9.根据权利要求1所述HJT非晶硅镀膜不良片的返工工艺，其特征还在于：所述P1.8慢提拉步骤中，所述纯水温度30-60℃，清洗时间＞30s。

10.根据权利要求1所述HJT非晶硅镀膜不良片的返工工艺，其特征还在于：所述P1.9烘干步骤中，所述烘干温度为30-90℃，烘干时间为400-720s。