[发明专利]一种用以制备无源器件的自动化设备及制备方法

权利要求书

1.一种用以制备无源器件的自动化设备，包括：

工作台(1)，用于提供设备放置的容置空间；

其特征在于，所述工作台(1)还包括有：

反应腔(2)，位于工作台(1)的顶部，用于提供制备无源器件的密闭空间；反应腔(2)具有两个，两个反应腔(2)内均设有固定组件(3)和旋转组件(4)，固定组件(3)位于反应腔(2)的底部，用于固定无源器件的半导体衬底；

旋转组件(4)位于固定组件(3)的底部，用于驱动固定组件(3)转动；

制备机构(5)，所述制备机构(5)包括第一制备组件(5a)和第二制备组件(5b)，第一制备组件(5a)和第二制备组件(5b)分别位于两个反应腔(2)的顶部，

第一制备组件(5a)用于在反应腔(2)充入化学气体，在半导体衬底表面上进行化学反应生成绝缘介质层；

第二制备组件(5b)用于在反应腔(2)充入化学气体，在半导体衬底的绝缘介质层上表面上形成金属层，从而获得无源器件样品；

所述反应腔(2)为圆筒状结构，反应腔(2)分为腔体(2a)和盖体(2b)，盖体(2b)的一侧设有连接轴(2b1)，盖体(2b)通过连接轴(2b1)与工作台(1)轴接，盖体(2b)的连接轴(2b1)的上方设有拉手(2b3)，拉手(2b3)与盖体(2b)轴接，工作台(1)内轴接有直线驱动器(2c)，直线驱动器(2c)的输出轴与拉手(2b3)轴接，盖体(2b)上远离拉手(2b3)的一侧设有把手(2b2)，盖体(2b)与腔体(2a)之间设置有密封圈，用于密封所述腔体(2a)，盖体(2b)的顶部设有与第一制备组件(5a)和第二制备组件(5b)相互匹配的进气孔(2b4)；

所述固定组件(3)为一个圆盘状的承载台(3a)，承载台(3a)的内部为空心结构，承载台(3a)的上方设有若干个通孔(3b)，承载台(3a)的内部通过与外部风机连接。

2.根据权利要求1所述的一种用以制备无源器件的自动化设备，其特征在于，所述旋转组件(4)包括旋转驱动器(4a)和旋转轴(4b)，工作台(1)内水平设置有隔板(4c)，旋转驱动器(4a)位于工作台(1)的隔板(4c)上，旋转轴(4b)位于旋转驱动器(4a)上方，且旋转驱动器(4a)的输出轴与旋转轴(4b)固定连接，旋转轴(4b)远离旋转驱动器(4a)的一端与固定组件(3)固定连接。

3.根据权利要求1所述的一种用以制备无源器件的自动化设备，其特征在于，所述第一制备组件(5a)和第二制备组件(5b)的结构完全一致，均包括制备筒(5a1)、气管(5a2)、原料罐(5a3)和喷嘴(5a4)，原料罐(5a3)具有若干个，所有原料罐(5a3)均位于工作台(1)的旁侧，制备筒(5a1)位于反应腔(2)的顶部，制备筒(5a1)的顶部设有若干个制备孔，喷嘴(5a4)位于制备筒(5a1)的底部，气管(5a2)位于原料罐(5a3)和制备孔之间。

4.根据权利要求1所述的一种用以制备无源器件的自动化设备，其特征在于，所述工作台(1)内还设有真空组件(7)，真空组件(7)包括真空泵(7a)和管道(7b)，真空泵(7a)位于工作台(1)的内部，腔体(2a)的底部设有抽气孔(7c)，两个反应腔(2)的抽气孔(7c)和真空泵(7a)之间通过管道(7b)连接，用于将反应腔(2)内的气体抽走。

5.根据权利要求1所述的一种用以制备无源器件的自动化设备，其特征在于，所述工作台(1)的旁侧还设有废气处理装置(6)，用于将制备机构(5)产生的废气排出并处理，盖体(2b)的边缘上设有出气孔(6b)，废气处理装置(6)通过废气管(6a)(5a2)与盖体(2b)的出气孔(6b)连接。

6.根据权利要求1所述的一种用以制备无源器件的自动化设备，其特征在于，所述承载台(3a)的下方还设有加热片(8a)，加热片(8a)上也开设有圆孔(8b)与通孔(3b)相互匹配，加热片(8a)用于对承载台(3a)进行加热，加热片(8a)与外部电源连接。