[发明专利]一种实现共轴的电子束成像设备及实现方法

权利要求书

1.一种实现共轴的电子束成像设备，其特征在于，包括：

电子源，用于发射主电子束；

聚光镜，用于调节束张角，即将所述电子源发射的电子束进行会聚；

限制膜孔，用于限制杂散电子和束流；

物镜，用于将入射的主电子束聚焦到样品表面，主电子束聚焦到样品表面时激发出成像信号电子；

环形反射板，用于对光学显微镜的光路进行折射，以及承接成像信号电子轰击且产生二次电子，所述环形反射板的中心孔供主电子束穿过，主电子束还穿过所述限制膜孔；所述环形反射板与电子光学光轴形成夹角；

工作台，用于承载样品并将待测区域移动定位至电子光学光轴下方；

光学显微镜，用于对待测区域成像定位并关联电子光学光轴所对应的位置；

所述工作台具有X和Y方向的位移功能，所述工作台以待测位置为中心沿成像方位进行光栅扫描运动；

所述光学显微镜的同侧设有二次电子探测器，所述二次电子探测器采用Everhart-Thornley探测器，所述二次电子探测器用于收集所述成像信号电子轰击到所述环形反射板产生的二次电子，经由光电转换形成图像。

2.根据权利要求1所述的一种实现共轴的电子束成像设备，其特征在于，所述光学显微镜设有对中调整机构，所述对中调整机构对镜筒进行平移和倾角调整。

3.根据权利要求1所述的一种实现共轴的电子束成像设备，其特征在于，还包括偏转器，用于聚焦主电子束在样品表面的光栅扫描。

4.一种实现共轴的电子束成像设备，其特征在于，包括：

电子源，用于发射主电子束；

聚光镜，用于调节束张角，即将所述电子源发射的电子束进行会聚；

限制膜孔，用于限制杂散电子和束流；

物镜，用于将入射的主电子束聚焦到样品表面；

探测器，用于收集主电子束轰击样品表面所激发出的信号电子，经由光电转换形成图像；

工作台，用于承载样品并将待测区域移动定位至电子光学光轴下方；

光学显微镜，用于对待测区域成像定位并关联电子光学光轴所对应的位置；

所述工作台具有X和Y方向的位移功能，所述工作台以待测位置为中心沿成像方位进行光栅扫描运动；

所述探测器使用Robinson探测器，所述探测器的探测面与电子光学光轴成夹角作为光反射面且收到信号电子轰击，所述探测面后接光导管与光电倍增管相接并通过光电转换获取图像信号，所述探测器设在光学显微镜的对侧。

5.根据权利要求4所述的一种实现共轴的电子束成像设备，其特征在于，所述探测器采用环形探测器，所述环形探测器的表面配置镜面且所述镜面与电子光学光轴形成夹角。

6.根据权利要求4所述的一种实现共轴的电子束成像设备，其特征在于，还包括偏转器，用于聚焦主电子束在样品表面的光栅扫描。

7.一种实现共轴的电子束成像设备，其特征在于，包括：

电子源，用于发射主电子束；

聚光镜，用于调节束张角，即将所述电子源发射的电子束进行会聚；

限制膜孔，用于限制杂散电子和束流；

物镜，用于将入射的主电子束聚焦到样品表面；

探测器，用于收集主电子束轰击样品表面所激发出的信号电子形成图像；

工作台，用于承载样品并将待测区域移动定位至电子光学光轴下方；

光学显微镜，用于对待测区域成像定位并关联电子光学光轴所对应的位置；

所述工作台具有X和Y方向的位移功能，所述工作台以待测位置为中心沿成像方位进行光栅扫描运动；

所述探测器使用硅探测器，所述硅探测器的探测面与电子光学光轴成夹角构成OM光路的反射面，信号直接由探测器放大输出。

8.根据权利要求7所述的一种实现共轴的电子束成像设备，其特征在于，所述探测器采用环形探测器，所述环形探测器的表面配置镜面且所述镜面与电子光学光轴形成夹角。