[发明专利]一种干粒悬浮釉及制备方法、在制备高透明瓷砖中的用途

说明书

一种干粒悬浮釉及制备方法、在制备高透明瓷砖中的用途，干粒悬浮釉原料包括：悬浮剂、透明熔块和水，并经球磨而成；透明熔块包括；SiO₂、Al₂O₃、K₂O、Na₂O、CaO、MgO等；悬浮剂包括：膨润土、苏州土、甲基纤维素钠、乙基纤维素钠、PVA、PAM和PEG中的一种或多种。制备方法，使用单一直径的球磨球旦对混合物球磨，使粒径分布为：120目筛余为0.5～2.5%，250目筛余为30～50%，325目筛余为：50～75%；该用途是将上述制备方法制得的干粒悬浮釉用于高透明瓷砖。本方案能解决现有技术中干法和湿法干粒工艺中需要提前将透明熔块加工成一定粒径范围的干粒的问题，避免粒径过小的干粒容易损耗。

技术领域

本发明涉及瓷砖技术领域，尤其涉及一种干粒悬浮釉及制备方法、在制备高透明瓷砖中的用途。

背景技术

目前市场上开发的高透明度全抛光干粒产品，可以分成干法和湿法这两种工艺。其中干法工艺的特征是采用干粒布料机将60～200目的透明干粒平铺在砖面，再通过前后2道固定剂喷雾把干粒固定后入窑烧制。这就需要固定剂非常均匀稳定的润湿每一颗干粒，一旦出现喷枪雾化不好或固定剂喷量不足，或固定剂不耐高温，都可能导致干粒被窑头风机吸走，导致瓷砖干粒表面不平及干粒被吸到抽烟风管而后不定期滴落造成缺陷的问题。另外，湿法工艺的主要特征是采用钟罩将含有120～250目的透明干粒与悬浮剂混合后的釉浆淋到砖坯表面。由于透明干粒：悬浮剂=0.8～1.0:1.0～1.2，透明干粒悬浮剂釉浆的比重在1.3～1.5,水分在45～55%。因此在相同淋釉量之下，湿法工艺所得到的干粒层固含量比普通釉料少30～40%，如果想要通过湿法工艺淋厚干粒，就要面临干燥不足导致炸砖、裂砖等风险。

目前为止，无论是干法还是湿法干粒工艺生产高透明全抛光干粒釉面砖，其透明干粒都需要提前将透明熔块加工成一定颗粒范围的干粒。这样的加工过程会带来一些过细（颗粒小于250目）干粒的损耗浪费，同时也增加了杂质混入的风险。这些无疑都将会增加生产成本。

发明内容

本发明的目的在于提出一种干粒悬浮釉，其使用45～65%的SiO₂、6～15%的Al₂O₃、3～7%的K₂O、0～2.5%的Na₂O、6～15%的CaO、0～1%的MgO、0～2%的BaO和3～12%的ZnO作为透明熔块，加入悬浮剂进行球磨而成。

本发明还提出一种干粒悬浮釉的制备方法，其用于制备上述的干粒悬浮釉。

本发明还提出一种干粒悬浮釉在制备高透明瓷砖中的用途，其将上述制备方法制得的干粒悬浮釉用于制备高透明瓷砖。

为达此目的，本发明采用以下技术方案：

一种干粒悬浮釉，其原料包括：悬浮剂、透明熔块和水，所述干粒悬浮釉的原料经球磨而成；

所述透明熔块，按质量百分比，其化学成分包括；45～65%的SiO₂、6～15%的Al₂O₃、3～7%的K₂O、0～2.5%的Na₂O、6～15%的CaO、0～1%的MgO、0～2%的BaO和3～12%的ZnO；

所述悬浮剂，其原料包括：膨润土、苏州土、甲基纤维素钠、乙基纤维素钠、PVA、PAM和PEG中的一种或多种组合。

优选地，所述悬浮剂、透明熔块和水的质量比为（1～50）:（50～100）：（50～100）。

更优地，所述悬浮剂、透明熔块和水的质量比为（1～10）:（90～100）：（50～70）。

优选地，所述干粒悬浮釉采用单一直径的球磨球体。