[发明专利]蒸发装置及真空镀膜设备在审
申请号: | 202110816658.X | 申请日: | 2021-07-20 |
公开(公告)号: | CN113564563A | 公开(公告)日: | 2021-10-29 |
发明(设计)人: | 黎微明;李翔;许所昌;龚炳建 | 申请(专利权)人: | 江苏微导纳米科技股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/448 | 分类号: | C23C16/448;C23C16/52 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 刘佩 |
地址: | 214000 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 蒸发 装置 真空镀膜 设备 | ||
1.一种蒸发装置,其特征在于,包括:
进气管,用于输入蒸汽;
第一蒸发盘,具有用于放置反应物源的第一蒸发腔及与所述第一蒸发腔连通的第一进气孔和第一出气孔,所述第一进气孔和所述第一出气孔分别位于所述第一蒸发盘的相对两侧,所述进气管一端与所述第一进气孔连通;
第一加热件,设置于所述第一蒸发盘的外侧,用于对所述第一蒸发盘进行加热;
第二蒸发盘,与所述第一蒸发盘固定连接,且所述第二蒸发盘具有用于放置所述反应物源的第二蒸发腔及与所述第二蒸发腔连通的第二进气孔和第二出气孔,所述第二进气孔和所述第二出气孔位于所述第二蒸发盘的相对两侧,所述第二进气孔与所述第一出气孔连通;
第二加热件,设置于所述第二蒸发盘的外侧,用于对所述第二蒸发盘进行加热;及
出气管,一端与所述第二出气孔连通。
2.根据权利要求1所述的蒸发装置,其特征在于,所述蒸发装置还包括第三蒸发盘,所述第三蒸发盘固定连接于所述第一蒸发盘和所述第二蒸发盘之间,且所述第三蒸发盘具有用于放置所述反应物源的第三蒸发腔及与所述第三蒸发腔连通的第三进气孔和第三出气孔,所述第三进气孔和所述第三出气孔位于所述第三蒸发盘的相对两侧,所述第三进气孔与所述第一出气孔连通,所述第三出气孔与所述第二进气孔连通。
3.根据权利要求2所述的蒸发装置,其特征在于,所述蒸发装置还包括第三加热件,所述第三加热件设置于所述第三蒸发盘的外侧,用于对所述第三蒸发盘进行加加热。
4.根据权利要求3所述的蒸发装置,其特征在于,所述蒸发装置包括至少两个所述第三蒸发盘及至少两个所述第三加热件,至少两个所述第三蒸发盘均设置于所述第一蒸发盘和所述第二蒸发盘之间,且依次固定连接,相邻的两个所述第三蒸发盘中其中一个所述第三蒸发盘的所述第三进气孔与另一个所述第三蒸发盘的所述第三出气孔连通,每一所述第三加热件设置于对应的一所述第三蒸发盘的外侧。
5.根据权利要求2所述的蒸发装置,其特征在于,所述第一蒸发盘、所述第三蒸发盘及所述第二蒸发盘结构相同,均包括本体及盖体,所述本体具有一敞口腔及与所述敞口腔连通的出气孔,所述盖体密封连接于所述本体,以将所述敞口腔封闭形成蒸发腔,所述盖体开设有进气孔。
6.根据权利要求2所述的蒸发装置,其特征在于,所述蒸发装置还包括至少两组中间组件,其中一部分所述中间组件连接于所述第一蒸发盘与所述第三蒸发盘之间,且分别与所述第一出气孔及所述第三进气孔连通,其中另一部分所述中间组件连接于所述第三蒸发盘与所述第二蒸发盘之间,且分别与所述第三出气孔及所述第二进气孔连通。
7.根据权利要求1所述的蒸发装置,其特征在于,所述第一蒸发盘及所述第二蒸发盘沿所述第一蒸发盘的轴向依次设置。
8.根据权利要求7所述的蒸发装置,其特征在于,所述第一蒸发盘及所述第二蒸发盘均为圆盘,且所述第一蒸发盘和所述第二蒸发盘同轴设置。
9.根据权利要求1所述的蒸发装置,其特征在于,所述蒸发装置还包括密封盖,所述密封盖密封连接于所述第一蒸发盘,且所述密封盖具有与所述第一进气孔连通的连通孔,所述进气管与所述密封盖连接,且所述连通孔连通。
10.一种真空镀膜设备,其特征在于,包括如权利要求1-9任一项所述的蒸发装置。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的