[发明专利]一种化学实验用玻璃矮缸单独清洗设备

权利要求书

1.一种化学实验用玻璃矮缸单独清洗设备，其特征在于，包括有：

底座（1）和放置机构（2），底座（1）顶部设有放置机构（2）；

清洁机构（3），放置机构（2）上设有清洁机构（3）。

2.根据权利要求1所述的一种化学实验用玻璃矮缸单独清洗设备，其特征在于，放置机构（2）包括有：

伸缩杆（21），底座（1）顶部设有伸缩杆（21）；

底板（23），伸缩杆（21）顶部设有底板（23）；

第一弹簧（22），底板（23）与底座（1）之间设有第一弹簧（22）；

第一安装架（24），底座（1）底部一侧设有第一安装架（24）；

气缸（25），第一安装架（24）一侧设有气缸（25）。

3.根据权利要求2所述的一种化学实验用玻璃矮缸单独清洗设备，其特征在于，清洁机构（3）包括有：

套筒（31），气缸（25）的活塞杆上转动式设有套筒（31）；

转盘（32），套筒（31）底部转动式设有转盘（32）；

第二弹簧（33），套筒（31）内侧之间设有第二弹簧（33）；

毛刷（34），套筒（31）一侧设有毛刷（34），转盘（32）一侧也设有毛刷（34）。

4.根据权利要求3所述的一种化学实验用玻璃矮缸单独清洗设备，其特征在于，还包括有定心机构（4），定心机构（4）包括有：

第二安装架（41），底板（23）两侧设有两个第二安装架（41）；

第一导向杆（42），第二安装架（41）一侧均滑动式设有第一导向杆（42）；

连接块（43），两个第一导向杆（42）一侧之间均设有连接块（43），连接块（43）一侧也均设有两个第一导向杆（42）；

夹板（44），连接块（43）内侧均设有夹板（44）。

5.根据权利要求4所述的一种化学实验用玻璃矮缸单独清洗设备，其特征在于，还包括有前推机构（5），前推机构（5）包括有：

第三安装架（51），底座（1）底部两侧设有第三安装架（51）；

第一滑轨（52），第三安装架（51）一侧均对称设有第一滑轨（52）；

第二滑轨（53），第三安装架（51）一侧中间均滑动式设有第二滑轨（53）；

推杆（54），两侧的第一滑轨（52）之间均滑动式设有推杆（54），推杆（54）均与第二滑轨（53）滑动式连接；

顶板（55），一侧的第一导向杆（42）之间均滑动式设有顶板（55），顶板（55）均与推杆（54）配合；

第三弹簧（56），顶板（55）与连接块（43）之间均对称设有第三弹簧（56），第三弹簧（56）均套在上部的第一导向杆（42）上。

6.根据权利要求5所述的一种化学实验用玻璃矮缸单独清洗设备，其特征在于，还包括有注水机构（6），注水机构（6）包括有：

第四安装架（61），底板（23）底部一侧设有第四安装架（61）；

第三滑轨（62），一侧的连接块（43）顶部一侧设有第三滑轨（62）；

喷头（63），第四安装架（61）一侧设有喷头（63）；

滑套（64），喷头（63）一侧设有滑套（64）；

第二导向杆（66），滑套（64）顶部一侧设有第二导向杆（66）；

挡块（65），第二导向杆（66）一侧滑动式设有挡块（65），挡块（65）与第三滑轨（62）滑动式连接，挡块（65）与喷头（63）配合；

第四弹簧（67），挡块（65）与第二导向杆（66）之间设有第四弹簧（67），第四弹簧（67）套在第二导向杆（66）上。

7.根据权利要求6所述的一种化学实验用玻璃矮缸单独清洗设备，其特征在于，还包括有排水机构（7），放置机构（2）上设有排水机构（7）。

8.根据权利要求7所述的一种化学实验用玻璃矮缸单独清洗设备，其特征在于，排水机构（7）包括有：

第五安装架（71），底板（23）一侧对称设有第五安装架（71）；

滑动架（72），第五安装架（71）一侧之间滑动式设有滑动架（72）；

滑块（73），滑动架（72）一侧滑动式设有滑块（73）；

第三导向杆（76），第五安装架（71）顶部设有第三导向杆（76）；

水泵（74），滑块（73）顶部设有水泵（74）；

导管（75），水泵（74）两侧均设有导管（75），导管（75）上侧之间相互连接，导管（75）均与滑块连接，导管（75）与第三导向杆（76）滑动式连接，导管（75）与第五安装架（71）之间设有弹性件，弹性件套在第三导向杆（76）上。