[发明专利]产品表面缺陷检测方法、装置、设备及存储介质在审
申请号: | 202110824673.9 | 申请日: | 2021-07-21 |
公开(公告)号: | CN113706462A | 公开(公告)日: | 2021-11-26 |
发明(设计)人: | 杨俊愉;王邦军;杨怀宇;李磊 | 申请(专利权)人: | 南京旭锐软件科技有限公司 |
主分类号: | G06T7/00 | 分类号: | G06T7/00;G06T5/20;G06T5/10;G06T5/00 |
代理公司: | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人: | 赵秀芹 |
地址: | 210012 江苏省南京*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 产品 表面 缺陷 检测 方法 装置 设备 存储 介质 | ||
1.一种产品表面缺陷检测方法,其特征在于,包括:
获取第一图像,所述第一图像为待测产品表面图像;
通过傅里叶变换,提取所述第一图像的相位谱和频率谱;
将所述第一图像的相位谱输入到预设的第一模型,得到目标相位谱,所述第一模型是基于不存在表面缺陷的产品的表面图像训练得到的;
基于所述目标相位谱和所述频率谱做傅里叶反变换,得到目标图像,所述目标图像为与所述第一图像对应的没有缺陷的图像;
基于所述目标图像和所述第一图像,确定所述待测产品表面是否存在缺陷。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述将所述第一图像的相位谱输入到预设的第一模型,得到目标相位谱之前,所述方法还包括:
在多张产品表面图像中确定样本图像,所述样本图像为不存在表面缺陷的产品的表面图像;
通过傅里叶变换,提取所述样本图像的相位谱;
基于所述样本图像的相位谱,构建训练样本;
基于所述训练样本训练预设的第一模型,得到训练后的第一模型。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述基于所述目标图像和所述第一图像,确定所述待测产品表面是否存在缺陷,包括:
分别计算所述目标图像的幅度谱残差和所述第一图像的幅度谱残差;
计算所述目标图像的幅度谱残差和所述第一图像的幅度谱残差的差值;
在所述差值大于预设阈值的情况下,确定所述待测产品表面不存在缺陷。
4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,计算所述目标图像的幅度谱残差,包括:
通过傅里叶变换,得到所述目标图像的原始幅度谱;
对所述目标图像的原始幅度谱做平滑处理,得到目标幅度谱;
计算所述目标幅度谱与所述原始幅度谱的差值,得到所述目标图像的幅度谱残差。
5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述通过傅里叶变换,提取所述第一图像的相位谱和频率谱之前,所述方法还包括:
消除所述第一图像背景的周期纹理,得到第二图像;
所述通过傅里叶变换,提取所述第一图像的相位谱和频率谱,包括:
通过傅里叶变换,提取所述第二图像的相位谱和频率谱。
6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,所述消除所述第一图像背景的周期纹理,包括:
通过带通滤波器处理所述第一图像,以消除所述第一图像背景的周期纹理。
7.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,所述消除所述第一图像背景的周期纹理,得到第二图像之后,所述方法还包括:
消除光照变化对所述第二图像的影响,得到第三图像;
所述通过傅里叶变换,提取所述第二图像的相位谱和频率谱,包括:
通过傅里叶变换,提取所述第三图像的相位谱和频率谱。
8.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,所述消除光照变化对所述第一图像的影响,包括:
通过线性反投影算法处理消除周期纹理后的所述第一图像,以消除光照变化对所述待第一图像的影响。
9.一种产品表面缺陷检测装置,其特征在于,包括:
第一获取模块,用于获取第一图像,所述第一图像为待测产品表面图像;
第一数据处理模块,用于通过傅里叶变换,提取所述第一图像的相位谱和频率谱;
模型处理模块,用于将所述第一图像的相位谱输入到预设的第一模型,得到目标相位谱,所述第一模型是基于不存在表面缺陷的产品的表面图像训练得到的;
第二数据处理模块,用于基于所述目标相位谱和所述频率谱做傅里叶反变换,得到目标图像,所述目标图像为与所述第一图像对应的没有缺陷的图像;
缺陷检测模块,用于基于所述目标图像和所述第一图像,确定所述待测产品表面是否存在缺陷。
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