[发明专利]2-17型钐钴永磁材料及其制备方法和应用有效

专利信息
申请号: 202110827355.8 申请日: 2021-07-21
公开(公告)号: CN113593882B 公开(公告)日: 2023-07-21
发明(设计)人: 王国雄;吴茂林;师大伟;傅忠伟 申请(专利权)人: 福建省长汀卓尔科技股份有限公司;厦门钨业股份有限公司
主分类号: H01F41/02 分类号: H01F41/02;H01F1/055
代理公司: 上海弼兴律师事务所 31283 代理人: 王卫彬;邹玲
地址: 366300 福建省龙*** 国省代码: 福建;35
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 17 型钐钴 永磁 材料 及其 制备 方法 应用
【说明书】:

发明公开了一种2‑17型钐钴永磁材料及其制备方法和应用。该制备方法包括:在钐钴烧结体的表面施加金属Cu层,扩散处理,之后进行时效处理,即得;其中,所述钐钴烧结体的成分为Rsubgt;x/subgt;Fesubgt;y/subgt;Cosubgt;1‑x‑y‑p‑q/subgt;Cusubgt;p/subgt;Msubgt;q/subgt;,其中,R为Sm,或R包含Sm和选自La、Pr、Nd、Gd、Ho、Er、Dy和Tb中的一种或多种稀土元素;M选自Zr、Ti和Hf中的一种或多种。该制备方法可以有效改善磁体晶界中的Cu含量,消除磁体退磁曲线的退磁台阶,使磁体在具备高剩磁的同时具有较高的矫顽力和磁能积,以及良好的方形度。

技术领域

本发明涉及一种2-17型钐钴永磁材料及其制备方法和应用。

背景技术

在高综合性能钐钴永磁材料领域,一般采用高Fe含量、低Cu含量的配方,高Fe含量可以提高主相的饱和磁化强度,从而获得较高的剩磁,同时低Cu含量有助于提高磁体中的主相比例,进一步使剩磁得到加强。

然而,普通2-17型钐钴永磁材料中,Fe含量的增加以及Cu含量的降低会磁体使在时效时难以形成完整连续的胞状结构,尤其会使组成胞状结构的富Cu含量的胞壁相Sm(Co,Cu)5(简称1:5H相)的比例不足,分布不完整,尤其在磁体晶界贫铜区域。

由于缺乏足够的Cu元素,无法形成高内禀矫顽力(Hcj)的1:5H相,从而极大地降低了磁体的内禀矫顽力(Hcj),磁体的退磁曲线在-2~-10kOe之间出现退磁台阶,恶化了磁体的方形度(SQ=Hk/Hcj),降低了磁体的膝点矫顽力(Hk)、磁感矫顽力(Hcb)和磁能积(BH)。

发明内容

本发明为了解决现有技术中高Fe含量、低Cu含量的2-17型钐钴永磁材料的Hcj、Hk、Hcb和BH均较低,并存在退磁台阶的缺陷,从而提供了一种2-17型钐钴永磁材料及其制备方法和应用。本发明所述的2-17型钐钴永磁材料的制备方法可以有效改善磁体晶界中的Cu含量,消除磁体退磁曲线的退磁台阶,使磁体在具备高剩磁的同时具有较高的Hcj、Hk、Hcb和BH,以及良好的方形度。

为了实现上述目的,本发明采用以下技术方案:

本发明提供了一种2-17型钐钴永磁材料的制备方法,其包括以下步骤:在钐钴烧结体的表面施加金属Cu层,扩散处理,之后进行时效处理,即得;

其中,所述钐钴烧结体的成分为RxFeyCo1-x-y-p-qCupMq,其中,R为Sm,或R包含Sm和选自La、Pr、Nd、Gd、Ho、Er、Dy和Tb中的一种或多种稀土元素;M选自Zr、Ti和Hf中的一种或多种;0.11x0.12,0.25y0.45,0.03p0.065,0.015q0.035,且满足0.05p+q0.08,1.5p/q4.5,7.5(1-x)/x8.0;其中,x、y、p、q表示原子占比,R、Fe、Co、Cu和M的总原子数记为1。

本发明中,x的范围优选为0.114x0.118,例如0.1132、0.1145、0.115、0.1155或0.12。

本发明中,y的范围优选为0.285y0.365,例如0.305、0.32或0.325。

本发明中,p的范围优选为0.04p0.055,例如0.042、0.05或0.055。

本发明中,q的范围优选为0.015q0.025,例如0.017、0.0185、0.0215或0.0245。

本发明中,p+q的范围优选为0.06p+q0.078,例如0.0665或0.068。

本发明中,p/q的范围优选为1.6p/q3.0,例如1.7或2.0。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于福建省长汀卓尔科技股份有限公司;厦门钨业股份有限公司,未经福建省长汀卓尔科技股份有限公司;厦门钨业股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110827355.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top