[发明专利]一种降噪贴片的制作方法、装置及降噪贴片有效
申请号: | 202110835616.0 | 申请日: | 2021-07-23 |
公开(公告)号: | CN113594648B | 公开(公告)日: | 2022-10-18 |
发明(设计)人: | 曾思玮;陈正棋 | 申请(专利权)人: | 合肥联宝信息技术有限公司 |
主分类号: | H01P1/20 | 分类号: | H01P1/20;H01P11/00 |
代理公司: | 北京乐知新创知识产权代理事务所(普通合伙) 11734 | 代理人: | 周伟 |
地址: | 230000 安徽省合肥市经*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 降噪贴片 制作方法 装置 | ||
本申请公开一种降噪贴片的制作方法、装置及降噪贴片,包括:确定滤波电路结构;并根据目标存储器的工作频率,确定滤波电路参数;根据所述滤波电路结构和所述滤波电路参数,确定相应的第一滤波电路;根据所述第一滤波电路,确定第二滤波电路;在金属箔片上构建所述第二滤波电路,以得到所述目标存储器对应的第一降噪贴片;本申请提供的一种降噪贴片的制作方法、装置及降噪贴片,通过在金属箔片上镂空处理建立第二滤波电路,得到第一降噪贴片,实现了制作低成本的降噪贴片,既能够满足目标存储器滤波降噪的需求,也能够降低硬件成本,提高经济效率。
技术领域
本申请涉及计算机硬件技术领域,尤其涉及一种降噪贴片的制作方法、装置及降噪贴片。
背景技术
在计算机硬件领域当中,硬件的性能表现与工作频率密切相关。所以随着硬件性能的升级,其工作频率也越来越高。随着而来的是,高频率的硬件之间,相互干扰的情况越来越严重。
例如当前计算机中常见的动态随机存储器(全称双倍速率同步动态随机存储器,即Double Data Rate Synchronous Dynamic Random Access Memory,简称DDR SDRAM或DDR),通常即PC行业中所谓的“内存”,常见工作频率在2000-4000MHz以上。在此频率下,如不经任何处理,则存储器和处理器(即CPU)之间很可能出现明显的相互干扰。
现有技术中,针对上述干扰的问题的解决方案通常包括两种。一为降低存储器的工作频率。二为在存储器表面覆盖吸波材料,以对其进行降噪。很显然,前一解决方案会损失硬件性能;后一解决方案中由于传统的吸波材料价格较高,所以会显著的提升硬件成本。
发明内容
本申请提供一种降噪贴片的制作方法、装置及降噪贴片,以至少解决现有技术中存在的以上技术问题。
第一方面,本申请提供一种降噪贴片的制作方法,包括:
确定滤波电路结构;并根据目标存储器的工作频率,确定滤波电路参数;
根据所述滤波电路结构和所述滤波电路参数,确定相应的第一滤波电路;
根据所述第一滤波电路,确定第二滤波电路;
在金属箔片上构建所述第二滤波电路,以得到所述目标存储器对应的第一降噪贴片。
优选的,所述确定滤波电路结构包括:
根据所述目标存储器的工作频率和/或尺寸,确定所述滤波电路结构。
优选的,根据所述目标存储器的工作频率,确定滤波电路参数包括:
基于特定的滤波算法,根据所述目标存储器的工作频率,计算得到所述滤波电路结构中元器件的参数数值;
将所述元器件的参数数值,确定为所述滤波电路参数。
优选的,滤波电路结构中的元器件包括:多个电容器和多个电感器;
则所述滤波电路结构中元器件的参数数值包括,各所述电容器的电容量值,和各所述电感器的电感值。
优选的,所述根据所述第一滤波电路,确定第二滤波电路;包括:
根据所述第一滤波电路,确定所述金属箔片的镂空纹路形状和镂空纹路参数。
优选的,所述根据所述第一滤波电路,确定所述金属箔片的镂空纹路形状和镂空纹路参数包括:
根据所述滤波电路结构确定所述镂空纹路形状;根据所述滤波电路参数确定所述镂空纹路参数。
优选的,所述在金属箔片上构建所述第二滤波电路包括:
根据所述金属箔片的镂空纹路形状和镂空纹路参数,对所述金属箔片进行镂空处理,以构建所述第二滤波电路;
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