[发明专利]超快激光重构的抗CMAS侵蚀热障涂层表面制备方法在审
| 申请号： | 202110837236.0 | 申请日： | 2021-07-23 |
| 公开（公告）号： | CN113549879A | 公开（公告）日： | 2021-10-26 |
| 发明（设计）人： | 花银群;戴峰泽;叶云霞;蔡杰 | 申请（专利权）人： | 苏州金航纳米技术研究有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32;C23C14/30;C23C14/16;C23C14/08;C23C14/02;C23C14/18;C23C14/35;C23C14/58;B23K26/364;B23K26/402 |
| 代理公司： | 南京智造力知识产权代理有限公司 32382 | 代理人： | 田玉菲 |
| 地址： | 215124 江苏省苏州市工业园*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 激光 cmas 侵蚀 热障 涂层 表面 制备 方法 | ||
1.超快激光重构的抗CMAS侵蚀热障涂层表面制备方法，其特征在于，具体步骤如下：
步骤一：采用多弧离子镀在镍基单晶叶片表面制备一层粘结层；
步骤二：采用电子束物理气相沉积法在粘结层表面制备一层陶瓷层；
步骤三：在陶瓷层表面采用超快激光加工出V形槽微织构；
步骤四：采用超快激光对步骤三获得的微织构表面进行微熔，获得微熔层；
步骤五：对步骤四获得的超快激光微熔层表面通过磁控溅射获得一层Pt层；
步骤六：对陶瓷层进行真空热处理；最终获得超快激光重构的抗CMAS侵蚀热障涂层表面。
2.如权利要求1所述的.超快激光重构的抗CMAS侵蚀热障涂层表面制备方法，其特征在于，所述的陶瓷层为Gd2Zr2O7或氧化钇部分稳定氧化锆YSZ，厚度为200～250μm，粘结层材料为MCrAlY或者NiAl合金，厚度为50～100μm；M为Ni或Co。
3.如权利要求1所述的超快激光重构的抗CMAS侵蚀热障涂层表面制备方法，其特征在于，步骤三中，所述的超快激光为皮秒激光或者飞秒激光；V形槽微织构深度为30～50μm，宽度为30～50μm，间距为80～120μm。
4.如权利要求1所述的超快激光重构的抗CMAS侵蚀热障涂层表面制备方法，其特征在于，步骤四中，所述的超快激光为皮秒激光或者纳秒激光；微熔层厚度为3～5μm。
5.如权利要求1所述的超快激光重构的抗CMAS侵蚀热障涂层表面制备方法，其特征在于，步骤五中，Pt层厚度为2～5μm。
6.如权利要求1所述的超快激光重构的抗CMAS侵蚀热障涂层表面制备方法，其特征在于，步骤六中，真空热处理的条件为：温度为1000℃，真空度为10-3Pa，热处理时间为5小时。
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