[发明专利]一种真空预载气浮支承结构及其应用

权利要求书

1.一种真空预载气浮支承结构，包括基板（1）和浮板（3），所述浮板（3）设置在基板（1）的上方，所述基板（1）的上端面嵌入有若干节流塞（2），所述节流塞（2）通过正压供气口（21）与正压提供装置连通，所述基板（1）的上端面向下凹陷形成真空腔（23），所述真空腔（23）通过抽气口（26）与真空发生装置连通，其特征在于，所述基板（1）与浮板（3）之间形成气膜间隙（22），所述基板（1）内在真空腔（23）下方设置有调节腔，所述调节腔与真空腔（23）连通，所述调节腔的纵向截面呈凸形结构，所述调节腔的大端内设置有真空节流板（5），所述真空节流板（5）的上端面设置有永磁体（4），所述永磁体（4）能够在调节腔的小端内上下移动，所述真空节流板（5）上设置有过孔（25），所述过孔（25）与调节腔的小端错开设置，所述真空节流板（5）的上端面与调节腔内壁之间形成真空节流口（24），所述真空腔（23）通过真空节流口（24）、过孔（25）和抽气口（26）与真空发生装置连通，所述浮板（3）采用导磁金属材料制成。

2.根据权利要求1所述的一种真空预载气浮支承结构，其特征在于，所述调节腔的大端内设置在真空节流板（5）的下方滑动设置有堵头（6），所述堵头（6）的上端面向下凹陷形成凹槽，所述真空节流板（5）的下端面设置有凸起（27），所述凸起（27）的自由端嵌入凹槽内，所述凸起（27）的外壁与凹槽的内壁紧贴，所述凸起（27）的底部与凹槽之间形成孔腔（28），通过滑动堵头（6）调节孔腔（28）的大小，所述堵头（6）的上端面低于抽气口（26）。

3.根据权利要求2所述的一种真空预载气浮支承结构，其特征在于，所述凸起（27）为圆柱结构，所述凹槽为与圆柱结构相配合的圆形槽。

4.根据权利要求1所述的一种真空预载气浮支承结构，其特征在于，所述真空节流板（5）上设置有多个过孔（25）；多个过孔（25）呈环形阵列布置。

5.根据权利要求1所述的一种真空预载气浮支承结构，其特征在于，所述真空节流板（5）为弹性元件。

6.根据权利要求1所述的一种真空预载气浮支承结构，其特征在于，所述调节腔的大端和小端内壁连接处为圆弧过渡。

7.根据权利要求1所述的一种真空预载气浮支承结构，其特征在于，所述调节腔的大端和小端均为圆形孔结构，所述调节腔的大端和小端具有相同轴向，所述永磁体（4）为柱状结构，所述永磁体（4）的外径小于调节腔的小端内径。

8.根据权利要求7所述的一种真空预载气浮支承结构，其特征在于，所述永磁体（4）与调节腔的小端具有相同轴向，且永磁体（4）的轴向高度大于调节腔小端的轴向长度。

9.根据权利要求1-8任一项所述的一种真空预载气浮支承结构，其特征在于，所述真空腔（23）设置在基板（1）的中心，若干节流塞（2）呈环形阵列布置在真空腔（23）外侧。

10.如权利要求1-9任一项所述的一种真空预载气浮支承结构应用，其特征在于，用于装置的真空度调节或压力调节。