[发明专利]显示面板及其制备方法、显示设备在审
申请号: | 202110837808.5 | 申请日: | 2021-07-23 |
公开(公告)号: | CN113571565A | 公开(公告)日: | 2021-10-29 |
发明(设计)人: | 袁长龙 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32 |
代理公司: | 北京市铸成律师事务所 11313 | 代理人: | 王丹丹;包莉莉 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示 面板 及其 制备 方法 设备 | ||
1.一种显示面板,其特征在于,包括:
衬底基板;
平坦化层,位于所述衬底基板的一侧;
第一电极层,位于所述平坦化层背离所述衬底基板的一侧,所述第一电极层包括多个第一电极;
像素界定层,位于所述第一电极层背离所述衬底基板的一侧,所述像素界定层开设有多个像素开口,多个像素开口与多个第一电极一一对应,所述第一电极通过对应的所述像素开口暴露,所述像素界定层包括层叠设置的多层子无机层,相邻两层子无机层的折射率不相同。
2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,多层子无机层在垂直于显示面板的方向上呈周期性排列。
3.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述多层子无机层包括第一子无机层和第二子无机层,所述第一子无机层和第二子无机层中一个折射率小于或等于2,另一个的折射率大于或等于1.5。
4.根据权利要求3所述的显示面板,其特征在于,所述第一子无机层相比于所述第二子无机层靠近所述平坦化层,所述第一子无机层的折射率小于所述第二子无机层的折射率,所述第一子无机层和所述第二子无机层的厚度之和为紫外线波长的1/2。
5.根据权利要求3所述的显示面板,其特征在于,折射率大于或等于1.5的子无机层的材质为金属氧化物,折射率小于或等于2的子无机层的材质为非金属氧化物。
6.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述像素开口在所述衬底基板上的正投影位于对应的所述第一电极在所述衬底基板上的正投影的范围内。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板还包括:
多个支撑柱,位于所述平坦化层与所述像素界定层之间;
有机发光层,位于所述第一电极层和所述像素界定层的背离所述衬底基板的一侧;
第二电极层,位于所述有机发光层背离所述衬底基板的一侧;
所述支撑柱的厚度大于所述第一电极、所述有机发光层和所述第二电极层的厚度之和。
8.根据权利要求7所述的显示面板,其特征在于,所述支撑柱与所述平坦化层同时形成。
9.一种显示设备,其特征在于,包括权利要求1至8中任一项所述的显示面板。
10.一种显示面板的制备方法,其特征在于,包括:
在衬底基板的一侧依次形成平坦化层和第一电极层;所述第一电极层包括多个第一电极;
在所述第一电极层背离所述衬底基板的一侧形成像素界定层,所述像素界定层开设有多个像素开口,多个像素开口与多个第一电极一一对应,所述第一电极通过对应的所述像素开口暴露,所述像素界定层包括层叠设置的多层子无机层,相邻两层子无机层的折射率不相同。
11.根据权利要求10所述的制备方法,其特征在于,在所述第一电极层背离所述衬底基板的一侧形成像素界定层,包括:
在所述第一电极层背离所述衬底基板的一侧形成电极保护层,所述电极保护层具有多个电极保护结构,各所述电极保护结构在所述衬底基板上的正投影分别位于各所述第一电极在所述衬底基板上的正投影范围内;
在所述电极保护层背离所述衬底基板的一侧形成所述像素界定层,各所述电极保护结构通过对应的所述像素开口暴露;
对所述电极保护层进行刻蚀,以去除位于所述像素开口内的所述电极保护结构而暴露出所述第一电极。
12.根据权利要求11所述的制备方法,其特征在于,所述电极保护结构在所述衬底基板上的正投影位于对应的所述像素开口在所述衬底基板上的正投影范围内。
13.根据权利要求11所述的制备方法,其特征在于,所述显示面板还包括支撑柱,所述支撑柱与所述平坦化层同时形成,形成所述平坦化层和所述支撑柱,包括:
在所述衬底基板的一侧形成平坦化膜;
采用半色调掩膜版对所述平坦化膜进行图案化处理,在所述支撑柱对应位置保留的平坦化薄膜的厚度大于其它位置的平坦化薄膜的厚度而形成所述支撑柱,在与各所述第一电极对应位置形成过孔以使各所述第一电极与所述衬底基板连接,其它位置形成平坦化层。
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