[发明专利]一种应用于热处理设备的晶圆传输调度的装置及方法在审
申请号: | 202110839378.0 | 申请日: | 2021-07-23 |
公开(公告)号: | CN113571463A | 公开(公告)日: | 2021-10-29 |
发明(设计)人: | 尹明清 | 申请(专利权)人: | 深圳市星国华先进装备科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683;H01L21/67 |
代理公司: | 合肥国晟知识产权代理事务所(普通合伙) 34204 | 代理人: | 戈余丽 |
地址: | 518000 广东省深圳市龙华区观*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 应用于 热处理 设备 传输 调度 装置 方法 | ||
1.一种应用于热处理设备的晶圆传输调度的装置,包括一侧贯穿进入热处理设备内部的横向输送机构(1),其特征在于,还包括:
机械臂(2),吊装设置在所述横向输送机构(1)下方,并且由所述横向输送机构(1)驱动进行循环移动;
非接触式拿取机构(3),固定设置在所述机械臂(2)远离所述横向输送机构(1)的一端,用于采用非接触的方式拿取晶圆;
所述非接触式拿取机构(3)由所述机械臂(2)控制进行移动;
热风机(4),设置在所述机械臂(2)顶端,通过金属软管与所述非接触式拿取机构(3)连接,用于向所述非接触式拿取机构(3)提供气流;
所述非接触式拿取机构(3)包括多个负压喷头(31),所述负压喷头(31)与所述热风机(4)管路连接,所述负压喷头(31)用于喷出气流对晶圆进行吸附。
2.根据权利要求1所述的一种应用于热处理设备的晶圆传输调度的装置,其特征在于:所述非接触式拿取机构(3)还包括测温探头(32),所述测温探头(32)用于检测负压喷头(31)吸附的晶圆的温度;
所述机械臂(2)根据测温探头(32)测得的晶圆的温度,改变机械臂(2)的姿态,控制所述机械臂(2)操作端的高度;
机械臂(2)通过控制操作端的高度,控制所述非接触式拿取机构(3)距离热处理设备发热端的距离。
3.根据权利要求2所述的一种应用于热处理设备的晶圆传输调度的装置,其特征在于:所述非接触式拿取机构(3)还包括通气壳体(33),所述通气壳体(33)内部设置有通气主管(331),所述通气主管(331)与多个所述负压喷头(31)之间均设置有通气支管(332);
所述通气壳体(33)顶部均设置有气流连接口(333),所述气流连接口(333)通过金属软管与所述热风机(4)之间连通,所述气流连接口(333)用于连通热风机(4)向所述通气主管(331)提供高温高速气流;
多个所述通气支管(332)用于将通气主管(331)的气流分别送入对应的所述负压喷头(31)中喷出。
4.根据权利要求3所述的一种应用于热处理设备的晶圆传输调度的装置,其特征在于:多个所述通气支管(332)的连通路径长度均相同。
5.根据权利要求2所述的一种应用于热处理设备的晶圆传输调度的装置,其特征在于:所述负压喷头(31)内部均设置有接触识别机构(311),所述接触识别机构(311)用于检测晶圆是否与所述负压喷头(31)接触,并且在晶圆与所述负压喷头(31)接触时发出接触信号;
所述热风机(4)根据是否存在所述接触信号,调整输出的气流的流速。
6.根据权利要求5所述的一种应用于热处理设备的晶圆传输调度的装置,其特征在于:所述接触识别机构(311)包括接触销(312)、压力传感器(313)和回复弹簧(314);
所述接触销(312)一端通过回复弹簧(314)与负压喷头(31)的内壁之间连接;
所述接触销(312)另一端设置有接触头(315),所述接触头(315)使用软性材料制成;
所述压力传感器(313)设置在所述负压喷头(31)的内壁,所述接触销(312)向所述负压喷头(31)内部移动时,对所述压力传感器(313)产生压力;
所述压力传感器(313)受到压力后发出接触信号。
7.根据权利要求1所述的一种应用于热处理设备的晶圆传输调度的装置,其特征在于:所述横向输送机构(1)按照其是否设置在热处理设备内部分为高温处理段(11)和低温回复段(12);
所述横向输送机构(1)上设置有环形导轨,所述环形导轨驱动所述机械臂(2)在所述环形导轨内部循环移动;
所述热风机(4)根据晶圆位于高温处理段(11)或低温回复段(12)的不同状态,控制供给所述非接触式拿取机构(3)的气流温度。
8.一种应用于热处理设备晶圆传输调度的方法,使用了权利要求1-7的装置,其特征在于,包括:
S1.通过横向输送机构(1)将机械臂(2)移动至待热处理的晶圆上方;
S2.通过热风机(4)向非接触式拿取机构(3)供给高速气流,非接触式拿取机构(3)喷出高速气流吸附待热处理的晶圆;
S3.通过横向输送机构(1)将非接触式拿取机构(3)吸附的晶圆输送至热处理设备中进行热处理;
S4.测温探头(32)探测晶圆的温度,机械臂(2)根据晶圆的温度,调整晶圆与热处理设备的发热端的距离;
S5.在晶圆热处理过程中,通过横向输送机构(1)带动晶圆在热处理设备中移动,在晶圆热处理一定时间后,通过机械臂(2)和非接触式拿取机构(3)将晶圆移出热处理装置;
S6.晶圆移出热处理装置后,热风机(4)通过非接触式拿取机构(3)仍旧对晶圆进行热风加热,使晶圆缓慢降温;
S7.晶圆抵达晶圆收集处后,热风机(4)缓慢停止对非接触式拿取机构(3)供给气流,非接触式拿取机构(3)不再产生吸附作用,将晶圆放下。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造