[发明专利]一种基于虚拟现实的半导体光刻技术教育培训和考核方法

权利要求书

1.一种基于虚拟现实的半导体光刻技术教育培训和考核方法，其特征在于：该方法包括以下步骤：

步骤1：启动主机系统，将主机系统的服务端与客户端进行连接，客户端负责虚拟场景的显示与交互，受训人员通过自己的账号和密码登录主机系统；

步骤2：客户端根据受训人员的权限，从服务端导入相应的光刻工艺虚拟实训课件，并在主机系统显示界面显示光刻工艺原理培训项目、光刻工艺操作技能培训项目和考核项目，受训人员根据自身的权限选择当前所需要进行培训的项目，如果是光刻工艺原理培训项目，则进入步骤3，如果是光刻工艺操作培训项目，则进入步骤６，如果是考核项目，则进入步骤9；

步骤３：显示界面生成光刻工艺原理培训单元，受训人员选择光刻工艺原理培训内容，通知主机系统，主机系统通过互联网数据系统完成硬件和软件各部分之间的连接与资源的调度；

步骤４：主机系统会调出虚拟助教在虚拟场景中，以文字、语音和动画相结合的方式对受训人员当前所学习的工艺原理 进行深入细致的讲解，并在讲解的过程中，设置相应的问题，以选择、判断的形式考查 受训人员的学习情况，并将相应的数据传递给服务端，判断受训人员是否掌握了已经学习的知识，若回答正确，则进入下一个知识点的学习；否则，进入步骤５；若一种工艺原理的所有知识点学习完毕，则返回步骤３；若受训人员已经将计划内的所有工艺原理学习完毕，则返回步骤２进入下一个项目的学习；

步骤５：系统提示回答错误，并由虚拟助教结合文字、语音或者动画 向受训人员详细解释错误及其严重后果，并对所对应的知识点进行回顾，之后继续下一个知识点的学习；

步骤６：显示界面显示具体的操作光刻工艺操作培训项目，受训人员选择当前所需要进行的操作培训项目，通知主机系统，主机系统完成各项准备工作；

步骤７：主机系统在虚拟场景中生成每个操作的演示动画，引导受训人员完成每步操作，并对一些关键的操作动作由虚拟助教在受训人员操作的时候对其进行详细的讲解；用户产生的交互动作数据传输到服务端，并判断受训人员是否采取了正确的行为模式，如果是，则进入下一个步骤，否则进入步骤8；若一个操作培训项目所有步骤都操作完成，则返回步骤6；若已经完成所有的操作培训项目，则返回步骤2进入下一个项目的学习；

步骤8：系统提示操作错误，重新向受训人员模拟演示不合规范的行为对应的正确虚拟动作，引导受训人员正确完成操作，进入下一操作的学习；

步骤9：在显示界面生成考核内容清单，受训人员选择考核内容，主机系统根据受训人员选择生成对应的虚拟场景；

步骤10：受训人员根据考核要求在虚拟场景中做出动作，同时受训人员产生的并将采集的交互数据被实时传送到服务端；根据交互数据实时判断受训人员是否采用正确的操作，如果否，则进入步骤11，否则，进入步骤12；

步骤11：主机系统提示行为错误，结束考核，进入步骤12；

步骤12：记录该受训人员的考核进度，且保存所有操作记录，推送该考核结果到相关部门。

2.根据权利要求1所述的基于虚拟现实的半导体光刻技术教育培训和考核方法，其特征在于：所述光刻工艺流程为：

清洗：去除样品表面的污染物和微粒、减少气孔以及其他缺陷并且能够提高光刻胶的附着力；

表面预处理：使用HDMS的蒸汽对硅片表面进行疏水化处理，进而增强硅片表面与光刻胶的黏附性；

匀胶：将光刻胶涂敷在基片表面；

前烘：蒸发掉胶中的有机溶剂成分，使晶圆表面固化；缓和在旋转过程中光刻胶膜内产生的应力；同时可以改变光刻胶的黏附性，提高光刻胶的均匀性，以及在刻蚀过程中的线宽均匀性控制；

曝光：紫外光源直接曝光到基片上，曝光区域的光刻胶会发生化学反应，结合后续的显影实现图形的转移；

后烘：通过加热的方式，使光化学反应得以充分完成；

显影：用化学显影液将曝光造成的光刻胶的可溶解区域溶解就是光刻胶的显影，其主要目的就是把掩膜版的图形准确复制到光刻胶中；

坚膜：通过加温烘烤使胶膜更牢固地黏附在晶圆表面，并可以增加胶层的抗刻蚀能力，坚膜温度通常略高于前烘温度。

3.根据权利要求2所述的基于虚拟现实的半导体光刻技术教育培训和考核方法，其特征在于：步骤6中所述光刻工艺操作培训项目包括基片的清洗、基片的表面预处理、基片的匀胶、基片的前烘、基片放入光刻机进行曝光、基片的后烘、基片的显影和基片的坚膜。