[发明专利]一种防析出和起霜的光稳定剂3853母粒及制备方法有效
申请号: | 202110842750.3 | 申请日: | 2021-07-26 |
公开(公告)号: | CN113462079B | 公开(公告)日: | 2023-01-10 |
发明(设计)人: | 严明芳 | 申请(专利权)人: | 天津利安隆新材料股份有限公司;江门市严恩化工科技有限公司 |
主分类号: | C08L23/12 | 分类号: | C08L23/12;C08L23/06;C08K5/3435;C08J3/22 |
代理公司: | 广州市科丰知识产权代理事务所(普通合伙) 44467 | 代理人: | 罗啸秋 |
地址: | 300480 天津市滨海新区*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 析出 稳定剂 3853 制备 方法 | ||
本发明属于高分子材料加工助剂技术领域,公开了一种防析出和起霜的光稳定剂3853母粒及制备方法。所述光稳定剂3853母粒包括以下质量百分含量的组分:光稳定剂3853:40%~50%;PP树脂:30%~50%;聚丙烯蜡:2%~10%;聚乙烯蜡:2%~10%;主抗氧剂:0.1%~0.5%;辅助抗氧剂:0.1%~0.2%。本发明组成的3853母粒能够有效地避免常规3853PP5母粒容易析出而导致结块的问题,生产具有连续性且生产效率高,不需要使用冷车运输,具有良好的抗光老化效果,适用于大部分聚合物,包括PP制品,TPO等,也可应用于聚缩醛、聚酰胺、苯乙烯聚合物和PUR等产品中。
技术领域
本发明属于高分子材料加工助剂技术领域,具体涉及一种防析出和起霜的光稳定剂3853母粒及制备方法。
背景技术
高分子材料在户外曝露于太阳光的情况下,因吸收紫外光而发生一系列的复杂现象,这种过程常称为光老化,实质上就是高分子链发生了种种物理和化学变化的结果。光老化容易让高分子材料产生诸如外观褪色,表面龟裂,机械和电性能下降等各种现象。光老化是高分子材料在应用过程中产生老化现象的重要原因之一。在高分子材料聚合和加工的过程中添加光稳定剂,能够有效地减缓高分子材料因为紫外线照射而导致的光老化。
光稳定剂UV-3853是一种新型受阻胺光稳定剂,化学名称是2,2,6,6-四甲基-4-哌啶硬脂酸酯,新型受阻胺光稳定剂,主要应用于聚烯烃塑料、聚氨酯、ABS树脂、涂料、粘合剂、橡胶等,其具有光稳定效果优良,并具有高效低毒等优点。在汽车用PP/PE制品中,相比于其他小分子量受阻胺类光稳定剂,光稳定剂3853跟PP/PE材料具有良好的相容性,降低了析出和起霜的现象。光稳定剂3853跟其他紫外吸收剂和受阻胺类光稳定剂剂共同使用,还具有良好的协同效果。
光稳定剂UV-3853的熔点较低,大约只有28℃左右。一般在冬季较冷的季节,光稳定剂UV-3853是一种白色蜡状的固体。而在气温比较高的夏季,光稳定剂UV-3853则变成颜色略微偏黄的油状液体。光稳定剂UV-3853的熔点偏低,且粘度偏大,给聚合物加工过程中的添加和加工带来了一定的困难,所以一般在实际生产过程中用到光稳定剂UV-3853,终端客户都会要求以母粒的形式添加。市面上售卖的3853PP5(或者3803PP5)就是以PP作为载体,添加50%左右的光稳定剂3853制成的抗老化母粒产品,但因为绝大多数公司很难解决低熔点光稳定剂3853的析出问题,往往会导致他们所生产的3853PP5产品在储存和运输的过程中很容易发生结块的问题,严重影响产品的正常使用。
针对上述3853PP5母粒出现的技术问题,目前抗老化助剂行业主流的解决思路主要有:(1)使用一些其他加工助剂比如发泡剂和吸附剂来改善PP载体对光稳定剂3853的包覆性能从而达到改善光稳定剂3853析出的目的;(2)使用发泡的聚丙烯作为载体,通过发泡聚丙烯吸收3853液体,从而达到改善光稳定剂3853析出的目的。
专利CN 110041616 A公开了一种防析出光稳定剂3853母粒及其制备方法,通过加入一定量的吸附剂和发泡剂,有效地改善了光稳定剂3853的析出问题,但由于引入了一定比例的吸附剂和发泡剂,可能会对高分子材料加工过程中产生一些不利的影响。专利CN105647010A公开了一种防粘连聚丙烯基光稳定剂母粒的制备方法,以发泡的聚丙烯作为载体,通过机械搅拌方式和光稳定剂3853物理混合,通过发泡聚丙烯来吸收液体3853制备出光稳定剂母粒产品。该方法生产成本高,生产效率低下,且对加工工艺的要求高,不具备成本优势。专利CN 106633416 A公开了一种抗氧母粒,采用特定含量的乙烯/极性单体共聚物作为聚丙烯的共混基体树脂,大大提高了聚丙烯与热稳定剂、光稳定剂的相容性,从而能够保证热稳定剂和光稳定剂牢固地束缚在基体树脂中而不会析出,使得制得的抗氧母粒具有优异的抗氧耐候性能和防析出性。但乙烯/极性单体共聚物与聚丙烯的相容性有限,可能对材料的加工性能产生不利影响,且成本较高。专利CN 104530558 A公开了一种由第二聚丙烯树脂、光稳定剂、碱性化合物和热稳定剂制成的改性光稳定剂母粒。但该专利技术目的主要为改善材料的耐候性,防止“粉化”,无法解决光稳定剂的析出和起霜所造成的结块问题。
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