[发明专利]一种四原色显示屏坏点的修复方法有效

专利信息
申请号: 202110847893.3 申请日: 2021-07-27
公开(公告)号: CN113539153B 公开(公告)日: 2023-06-09
发明(设计)人: 林岳;黄伟志;郭伟杰;陈华山;蔡宗建;伍熙阳;吴挺竹 申请(专利权)人: 厦门大学
主分类号: G09G3/00 分类号: G09G3/00;G09F9/33
代理公司: 厦门南强之路专利事务所(普通合伙) 35200 代理人: 马应森
地址: 361005 福建*** 国省代码: 福建;35
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 原色 显示屏 修复 方法
【权利要求书】:

1.一种四原色显示屏坏点的修复方法,其特征在于包括如下步骤:

1)设计一种四原色像素排列方案,使每个子像素周围具有一个相同颜色的子像素,以确保子像素出现坏点时,能借用周围相同颜色的子像素完成显示;

2)根据人眼与显示屏的距离,结合视网膜的分辨极限,计算人眼在一定距离下对像素点的分辨极限;

3)利用光学仿真软件搭建显示阵列和探测平面,显示阵列模拟带有坏点子像素屏幕的显示效果,设定第m行第n列的坏点为(m,n),探测平面以坏点为中心,设置在显示阵列中坏点的近表面处,沿水平方向和竖直方向移动探测平面,记录覆盖区域内的光通量;

4)拟合光学仿真软件中的数据,模拟没有坏点下探测平面移动中光通量的变化,改变坏点周围子像素的光通量权重,实现坏点修复。

2.如权利要求1所述一种四原色显示屏坏点的修复方法,其特征在于在步骤1)中,所述四原色像素排列方案具体为:每个像素包含四个子像素,由红绿蓝青四种颜色组成,子像素以2×2方式排列,每个子像素周围具有一个相同颜色的子像素;所述排列构成两种像素布局,二者形成显示阵列最小的重复单元,所述子像素的形状包括但不限于菱形、长方形、正方形、圆形或椭圆形。

3.如权利要求1所述一种四原色显示屏坏点的修复方法,其特征在于在步骤1)中,所述四原色像素排列方案应用于OLED、Micro-LED等自发光显示装置。

4.如权利要求1所述一种四原色显示屏坏点的修复方法,其特征在于在步骤2)中,所述视网膜的分辨极限为视角α小于1弧分度,人眼无法分便两个物体;所述计算人眼在一定距离下对像素点的分辨极限,公式如下:

式中,h为分辨间距,d为人眼与显示屏的距离,α为视角。

5.如权利要求1所述一种四原色显示屏坏点的修复方法,其特征在于在步骤3)中,所述利用光学仿真软件搭建显示阵列,设置的参数包括每个子像素的发光波长及半高宽、光源类型、光通量、光线仿真数量、子像素尺寸。

6.如权利要求1所述一种四原色显示屏坏点的修复方法,其特征在于在步骤3)中,所述模拟带有坏点子像素屏幕的显示效果,分别模拟显示阵列出现红、绿、蓝、青子像素坏点下的显示情况,记录探测平面在以坏点为中心进行水平和竖直方向扫描时光通量随移动距离的变化。

7.如权利要求1所述一种四原色显示屏坏点的修复方法,其特征在于在步骤3)中,所述探测平面设置在显示阵列的近表面处,探测平面为圆形,探测平面的直径小于等于分辨间距h,探测平面接收并记录其覆盖区域内子像素的光通量;探测平面的尺寸应保证一定距离下在人眼中的成像小于或等于视网膜的艾里斑,使人眼无法分辨探测平面覆盖下的子像素。

8.如权利要求1所述一种四原色显示屏坏点的修复方法,其特征在于在步骤3)中,所述探测平面设置的参数包括探测平面的直径、与显示阵列的距离。

9.如权利要求1所述一种四原色显示屏坏点的修复方法,其特征在于在步骤3)中,所述记录覆盖区域内的光通量是通过光线追踪记录探测平面覆盖范围下子像素的光通量。

10.如权利要求1所述一种四原色显示屏坏点的修复方法,其特征在于在步骤4)中,所述实现坏点修复的具体步骤可为:

(1)拟合光学仿真软件中的数据,模拟没有坏点下探测平面移动中光通量的变化,建立非线性多变量规划模型;

(2)在光学仿真软件上模拟显示屏存在坏点情况下,探测平面横向或纵向移动中接收光通量的变化情况,重建光学软件的模拟过程及结果;使用非线性多变量规划模型对坏点周围子像素权重的调整,限制每个子像素权重的取值范围,算法生成最优取值,以使探测平面在以坏点为中心进行水平和垂直方向扫描所得光通量接近没有坏点时的光通量,消除显示阵列的亮度不均匀性,使得修复后探测平面所接收的光通量和无坏点情况下的光通量尽可能接近,实现亮度补偿;

(3)限制每个像素下的四个子像素权重取值范围,使得像素点发出的光在原像素色坐标的麦克亚当椭圆内,保证坏点周围像素没有发生人眼可分辨的色度偏移,实现色度补偿。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于厦门大学,未经厦门大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110847893.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top