[发明专利]二维楔形遮罩的产生方法及系统有效

专利信息
申请号: 202110852239.1 申请日: 2021-07-27
公开(公告)号: CN113542755B 公开(公告)日: 2022-06-21
发明(设计)人: 王景新;张斐然;陈泰全;柯逸倩 申请(专利权)人: 展讯通信(上海)有限公司
主分类号: H04N19/196 分类号: H04N19/196;H04N19/426
代理公司: 北京汇思诚业知识产权代理有限公司 11444 代理人: 沈逸弢
地址: 201210 上海市浦东新区自由贸易*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 二维 楔形 产生 方法 系统
【权利要求书】:

1.一种二维楔形遮罩的产生方法,其特征在于,所述方法包括:

采集楔形遮罩的遮罩特性,根据所述遮罩特性在缓冲存储中产生一维阵列及与所述楔形遮罩大小相同的缓冲阵列;

根据所述楔形遮罩的遮罩特性,选择所述一维阵列在所述缓冲阵列中的摆放方式;

根据所述楔形遮罩的遮罩特性以及所述一维阵列的摆放方式,在所述缓冲阵列中读取所述一维阵列的起始点在每一行/每一列中所处的位置序号;

根据所述楔形遮罩的遮罩特性以及所述一维阵列的摆放方式和起始点的位置序号,读取所述一维阵列的翻转结果;

根据所述楔形遮罩的遮罩特性以及所述一维阵列的摆放方式、起始点的位置序号和翻转结果,将所述一维阵列通过填写算法填入所述缓冲阵列中,得到楔形遮罩。

2.根据权利要求1所述的二维楔形遮罩的产生方法,其特征在于,在根据所述楔形遮罩的遮罩特性以及所述一维阵列的摆放方式、起始点的位置序号和翻转结果,将所述一维阵列通过填写算法填入所述缓冲阵列中,得到楔形遮罩的步骤中,包括以下步骤:

根据所述楔形遮罩的遮罩特性,确定所述缓冲阵列的区域大小以及相邻两个所述一维阵列填入所述缓冲阵列中时起始点的位差;

根据所述一维阵列的摆放方式,确定向所述缓冲阵列中填写数值的方向为行方向还是列方向;

根据所述起始点的位置序号以及相邻两个起始点的位差,确定在向所述缓冲阵列的各行/各列中填写所述一维阵列的值之前,分别填写0值或64值的数量;

根据所述一维阵列的翻转结果,确定在所述一维阵列之前向所述缓冲阵列的各行/各列填写0值还是64值;

向所述缓冲阵列中各个位置填写数值及所述一维阵列;

其中,所述摆放方式为水平摆放时,在所述缓冲阵列中逐行填写数值;

所述摆放方式为垂直摆放时,在所述缓冲阵列中逐列填写数值;

当所述一维阵列的翻转结果为正常阵列时,在所述一维阵列之前向所述缓冲阵列的各行/各列填写0值;

当所述一维阵列的翻转结果为翻转阵列时,在所述一维阵列之前向所述缓冲阵列的各行/各列填写64值。

3.根据权利要求2所述的二维楔形遮罩的产生方法,其特征在于,相邻两个所述一维阵列的起始点的位差为-2,0,+2中的一个。

4.根据权利要求1所述的二维楔形遮罩的产生方法,其特征在于,生成的一维阵列为第一阵列或第二阵列;

其中,第一阵列为M1[16]={01,01,02,04,06,11,18,27,37,46,53,58,60,62,63,63},第二阵列为M2[6]={02,07,21,43,57,62}。

5.根据权利要求1所述的二维楔形遮罩的产生方法,其特征在于,所述摆放方式包括水平摆放和垂直摆放,当所述一维阵列的摆放方式为水平摆放时,在所述缓冲阵列中逐行读取所述一维阵列的起始点,当所述一维阵列的摆放方式为垂直摆放时,在所述缓冲阵列中逐列读取所述一维阵列的起始点。

6.根据权利要求1所述的二维楔形遮罩的产生方法,其特征在于,所述翻转结果包括正常阵列或翻转阵列,所述正常阵列中的数值排列顺序与所述翻转阵列中的数值排列顺序相反。

7.根据权利要求1所述的二维楔形遮罩的产生方法,其特征在于,所述遮罩特性包括所述楔形遮罩的遮罩大小、遮罩角度以及遮罩方向;

其中,所述遮罩大小包括32x32、32x16、32x8、16x32、16x16、16x8、8x32、8x16、8x8中的一种,所述遮罩角度包括0°、27°、63°、90°、117°、153°中的一种,所述遮罩方向包括正向方向和翻转方向中的一种。

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