[发明专利]一种低放射性废水的预处理方法

权利要求书

1.一种低放射性废水的预处理方法，其特征在于，所述预处理方法包括以下步骤：

气浮除渣：向气浮池的底部通入溶气水，以在水面形成浮渣，收集浮渣，并得到第一中间液体；

初级过滤：将所述第一中间液体输入至过滤器得到第二中间液体；

次级过滤：将所述第二中间液体输入至陶瓷膜装置中，经过滤后得到第三中间液体，其中，所述的次级过滤步骤的过滤尺寸小于所述的初级过滤步骤中的过滤尺寸；

反渗透处理：将所述第三中间液体进行反渗透处理，得到净化液。

2.根据权利要求1所述预处理方法，其特征在于，在所述的气浮除渣之前，所述预处理方法包括：向所述废水中加入混凝剂。

3.根据权利要求2所述的预处理方法，其特征在于，所述混凝剂包括聚合氯化铝和聚丙烯酰胺，所述聚合氯化铝的浓度范围为300mg/L～1000mg/L，所述聚丙烯酰胺的浓度范围小于或等于2mg/L。

4.根据权利要求1所述预处理方法，其特征在于，所述的初级过滤具体包括：

将所述第一中间液体输入至旋转刮刀装置中得到所述第二中间液体，驱动所述旋转刮刀装置的刮刀转动以刮除附着在所述旋转刮刀装置的滤膜上的滤渣。

5.根据权利要求4所述预处理方法，其特征在于，所述的初级过滤的步骤还包括：对所述滤膜进行反冲洗处理得到第一待处理水；所述预处理方法包括：将所述第一待处理水以及所述滤渣进行氧化处理。

6.根据权利要求1所述的预处理方法，其特征在于，所述的次级过滤的步骤还包括：

在所述的次级过滤的过程中，驱动所述陶瓷膜装置的陶瓷膜旋转。

7.根据权利要求6所述的预处理方法，其特征在于，所述的次级过滤的步骤还包括：控制所述陶瓷膜停止旋转，沿所述第二中间液体流过所述陶瓷膜的相反方向输入压缩空气；和/或，

所述的次级过滤的步骤还包括：控制所述陶瓷膜停止旋转，沿所述第二中间液体流过所述陶瓷膜的相反方向输入反冲洗水，所述反冲洗水流过所述陶瓷膜后得到第二待处理水；所述预处理方法包括：将所述第二待处理水并进行氧化处理。

8.根据权利要求1所述的预处理方法，其特征在于，所述反渗透处理的步骤还包括：收集未透过所述反渗透膜的所述第三中间液体并作为所述第三待处理水；所述预处理方法包括：将所述第三待处理水进行氧化处理。

9.根据权利要求5或者7或者8所述的预处理方法，其特征在于，所述的氧化处理包括：

制备超临界水；

将待处理物质导入装有所述超临界水的反应容器中。

10.根据权利要求9所述的预处理方法，其特征在于，所述的制备超临界水包括：向超临界氧化水处理装置中加入水并升高压力，将压力维持在范围20MPa-22MPa，保持压力10min-60min后进行加热，加热至300℃-370℃后，注入氧气和蔗糖，得到470℃-570℃的所述超临界水。

11.根据权利要求5或者7或者8所述的预处理方法，其特征在于，所述的氧化处理为化学氧化，所述化学氧化包括：向待处理物质中加入氧化剂，所述氧化剂包括双氧水和硫酸亚铁。

12.根据权利要求1所述的预处理方法，其特征在于，所述的初级过滤的步骤用于去除20μm以上的固体颗粒物及固体悬浮物；所述的次级过滤的步骤用于去除0.2μm以上的胶体粒子。