[发明专利]精度管理辅助方法、系统、装置及含相应程序的存储介质

权利要求书

1.一种精度管理辅助方法，其显示与测定被检对象样本的分析装置相关的精度管理的管理图，所述精度管理辅助方法的特征在于包括：

生成第一管理图，所述第一管理图表示通过所述分析装置在第一期间测定精度管理物质而得到的结果；

受理和所述第一期间不同的第二期间的指定，所述第二期间比所述第一期间短且与所述第一期间至少有一部分重合；

生成第二管理图，所述第二管理图表示在所述第二期间通过所述分析装置测定被检对象样本而得到的结果；

显示生成的所述第一管理图；

显示生成的所述第二管理图。

2.根据权利要求1所述的精度管理辅助方法，其特征在于还包括：

受理所述第一期间的指定，

其中，在所述第一管理图的生成中，生成与受理的所述指定相对应的所述第一期间内的所述第一管理图。

3.根据权利要求1所述的精度管理辅助方法，其特征在于：

所述第二期间的指定的受理在显示所述第一管理图后执行。

4.根据权利要求1所述的精度管理辅助方法，其特征在于：

在所述第二期间的指定的受理中，在已显示所述第一管理图的状态下受理所述第二期间的指定。

5.根据权利要求1所述的精度管理辅助方法，其特征在于还包括：

生成第三管理图，所述第三管理图表示在比所述第二期间长的第三期间中通过所述分析装置测定被检对象样本而得到的结果；以及

显示生成的所述第三管理图，

其中，在所述第二期间的指定的受理中，通过指定显示的所述第三管理图的一部分区域来受理与指定的所述一部分区域相对应的所述第二期间的指定。

6.根据权利要求5所述的精度管理辅助方法，其特征在于还包括：

在所述第一管理图中以与其他区域不同的形态显示所述第一管理图的一部分区域；以及

在所述第三管理图中以与其他期间不同的形态显示与所述第一管理图上的所述一部分区域相对应的期间。

7.根据权利要求6所述的精度管理辅助方法，其特征在于还包括：

变更指定的所述第一管理图的所述一部分区域；

与所述第一管理图的所述一部分区域的变更相应地变更所述第三管理图的显示形态。

8.根据权利要求5至7其中任意一项所述的精度管理辅助方法，其特征在于还包括：

受理所述第三管理图的一部分区域的变更。

9.根据权利要求5至7其中任意一项所述的精度管理辅助方法，其特征在于还包括：

在所述第二管理图的显示中，显示表示所述第二期间和所述第三期间的关系的关系界面。

10.根据权利要求9所述的精度管理辅助方法，其特征在于还包括：

介由所述关系界面受理所述第二管理图的显示期间的变更；

与受理的变更相应地显示所述第二管理图。

11.根据权利要求1至4其中任意一项所述的精度管理辅助方法，其特征在于：

在所述第二期间的指定的受理中，通过指定所述第一管理图的一部分区域来受理与指定的所述一部分区域相对应的所述第二期间的指定。

12.根据权利要求1至4其中任意一项所述的精度管理辅助方法，其特征在于：

在所述第二期间的指定的受理中，显示用于指定所述第二期间的对话框，并介由所述对话框受理所述第二期间的指定。

13.根据权利要求1至7其中任意一项所述的精度管理辅助方法，其特征在于：

在所述第一管理图的显示中，在所述第一期间内发生了一定事件的情况下显示表示事件的发生的标记。