[发明专利]用于光刻制造系统的剂量信息生成和传达

权利要求书

1.一种方法，包括：

接收集成电路IC设计文件；

通过一个或多个处理器根据所述IC设计文件来确定剂量信息；

通过所述一个或多个处理器根据所述IC设计文件来确定掩模矢量文件；

通过所述一个或多个处理器将所述剂量信息转换为矢量文件格式；以及

将所述矢量文件格式的所述剂量信息和所述掩模矢量文件输出到掩模写入器设备。

2.根据权利要求1所述的方法，其中将所述剂量信息转换为所述矢量文件格式包括：

从所述剂量信息中提取一个或多个多边形；以及

基于所提取的一个或多个多边形来生成所述剂量信息的基于地形矢量的表示。

3.根据权利要求2所述的方法，其中所述剂量信息由图像文件表示，并且其中提取所述一个或多个多边形包括：

以剂量水平描画所述图像文件的轮廓，以检测所述剂量信息内的最大剂量值和最小剂量值，其中所述基于地形矢量的表示根据被描画轮廓的所述图像文件而被生成。

4.根据权利要求2所述的方法，其中剂量分布位于所述一个或多个多边形的边缘附近。

5.根据权利要求1所述的方法，其中将所述剂量信息转换为所述矢量文件格式包括：

沿着所述剂量信息的剂量分布选择一个或多个点；以及

确定所述一个或多个点中的每个点的一维分布。

6.根据权利要求5所述的方法，其中沿着所述剂量分布选择所述一个或多个点包括：基于局部像素变化来选择所述一个或多个点。

7.根据权利要求5所述的方法，还包括：基于所述一个或多个点中的每个点的所述一维分布来确定基于切割线向量的表示，其中所述基于切割线向量的表示指示所述一个或多个点中的每个点的剂量水平。

8.一种光刻系统，包括：

存储器；以及

处理器，与所述存储器耦合，所述处理器被配置为：

接收集成电路IC设计文件；

根据所述IC设计文件来确定剂量信息；

根据所述IC设计文件来确定掩模矢量文件；

将所述剂量信息转换为矢量文件格式；以及

将所述矢量文件格式的所述剂量信息和所述掩模矢量文件输出到掩模写入器设备。

9.根据权利要求8所述的光刻系统，其中将所述剂量信息转换为所述矢量文件格式包括：

从所述剂量信息中提取一个或多个多边形；以及

基于所提取的一个或多个多边形来生成所述剂量信息的基于地形矢量的表示。

10.根据权利要求9所述的光刻系统，其中所述剂量信息由图像文件表示，并且其中提取所述一个或多个多边形包括：

以剂量水平描画所述图像文件的轮廓，以检测所述剂量信息内的最大剂量值和最小剂量值，其中所述基于地形矢量的表示根据被描画轮廓的所述图像文件而被生成。

11.根据权利要求9所述的光刻系统，其中剂量分布位于所述一个或多个多边形的边缘附近。

12.根据权利要求8所述的光刻系统，其中将所述剂量信息转换为所述矢量文件格式包括：

沿着所述剂量信息的剂量分布选择一个或多个点；以及

确定所述一个或多个点中的每个点的一维分布。

13.根据权利要求12所述的光刻系统，其中沿着所述剂量分布选择所述一个或多个点包括：基于局部像素变化来选择所述一个或多个点。

14.根据权利要求12所述的光刻系统，还包括：基于所述一个或多个点中的每个点的所述一维分布来确定基于切割线向量的表示，其中所述基于切割线向量的表示指示所述一个或多个点中的每个点的剂量水平。