[发明专利]一种废晶圆表面膜剥离再生处理工艺及其装置

权利要求书

1.一种废晶圆表面膜剥离再生处理工艺，其特征在于，所述工艺用于多个再生晶圆双面处理装置，该装置包括可高速旋转的载晶盘（1）和夹持在载晶盘（1）两侧的研磨抛光装置（2），载晶盘（1）的盘根上设有腐蚀试剂喷嘴（4）、抛光油喷嘴（5）和清洗液喷嘴（6），载晶盘（1）的周向上设有废液回收装置（7），该工艺具体包括如下步骤：

步骤1）、在再生晶圆两侧表面形成一层流动的化学腐蚀试剂薄膜，对再生晶圆表面的氧化膜进行化学腐蚀；

步骤2）、在步骤1）完成后，在再生晶圆两侧表面形成一层流动的研磨抛光油膜，对再生晶圆表面的氧化膜进行研磨剥离；

步骤3）、在步骤2）完成后，在再生晶圆两侧表面形成一层流动的清洗液膜，对再生晶圆表面剥离下的氧化膜进行清洗。

2.根据权利要求1所述的一种废晶圆表面膜剥离再生处理工艺，其特征在于，所述研磨抛光装置（2）呈环形状，所述载晶盘（1）呈圆盘状，所述载晶盘（1）与研磨抛光装置（2）相适配，所述载晶盘（1）沿周向设有多个放置晶圆的工位（3）。

3.根据权利要求1或2所述的一种废晶圆表面膜剥离再生处理工艺，其特征在于，所述研磨抛光装置（2）的研磨抛光面上设有交错，且连通的浅槽。

4.根据权利要求1所述的一种废晶圆表面膜剥离再生处理工艺，其特征在于，所述步骤1）和3）中，所述研磨抛光装置（2）的抛光面与载晶盘（1）之间均设有间距，其间距不大于晶圆厚度。

5.根据权利要求1所述的一种废晶圆表面膜剥离再生处理工艺，其特征在于，所述步骤1）中设有腐蚀液处理循环系统，所述腐蚀液处理循环系统包括废液存储罐（8）、浓度调节罐（9）、试剂存储罐（10）和第一输液泵（11），所述废液存储罐（8）、浓度调节罐（9）、试剂存储罐（10）和第一输液泵（11）通过管件串连在废液回收装置（7）与腐蚀试剂喷嘴（4）之间，所述浓度调节罐（9）上设有用于腐蚀化学试剂的添加装置（12）。

6.根据权利要求5所述的一种废晶圆表面膜剥离再生处理工艺，其特征在于，所述废液存储罐（8）、浓度调节罐（9）、试剂存储罐（10）呈梯度排布，且废液存储罐（8）、浓度调节罐（9）、试剂存储罐（10）之间均设有控制阀。

7.根据权利要求1所述的一种废晶圆表面膜剥离再生处理工艺，其特征在于，所述步骤2）中设有回油处理循环系统，所述回油处理循环系统包括离心分离机（13）和第二输液泵（14），所述离心分离机（13）和第二输液泵（14）通过管件串连在废液回收装置（7）与抛光油喷嘴（5）之间。

8.根据权利要求7所述的一种废晶圆表面膜剥离再生处理工艺，其特征在于，所述第二输液泵（14）的入液端还设有过滤装置（15） ，所述过滤装置（15）内置可更换的滤芯。